[发明专利]势垒增强同型异质结II类超晶格长/长波双色红外探测器在审
申请号: | 202111275921.5 | 申请日: | 2021-10-29 |
公开(公告)号: | CN114068738A | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 徐志成;李光昊 | 申请(专利权)人: | 中科爱毕赛思(常州)光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/0304;H01L31/101;H01L31/103;H01L31/11 |
代理公司: | 南京钟山专利代理有限公司 32252 | 代理人: | 李小静 |
地址: | 213030 江苏省常州市新北*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 增强 型异质结 ii 晶格 长波 红外探测器 | ||
1.势垒增强同型异质结II类超晶格长/长波双色红外探测器,其特征在于,包括:P型第一长波吸收层、外延于所述P型第一长波吸收层上的P型空穴势垒层,以及外延于所述P型空穴势垒层上的P型第二长波吸收层;
所述P型第一长波吸收层以及所述P型第二长波吸收层分别与所述P型空穴势垒层形成同型掺杂异质结。
2.根据权利要求1所述的势垒增强同型异质结II类超晶格长/长波双色红外探测器,其特征在于,还包括:衬底、缓冲层、P型第一欧姆接触层、P型第二欧姆接触层、第一电极以及第二电极;
所述缓冲层外延生长于所述衬底之上,所述P型第一欧姆接触层外延生长于所述缓冲层上,所述P型第一长波吸收层外延生长于所述P型第一欧姆接触层上,所述P型第二欧姆接触层外延生长于所述P型第二长波吸收层上;
所述第一电极设于所述P型第一欧姆接触层上未被所述P型第一长波吸收层所覆盖的台面上,所述第二电极设于所述P型第二欧姆接触层之上。
3.根据权利要求2所述的势垒增强同型异质结II类超晶格长/长波双色红外探测器,其特征在于,所述P型第一长波吸收层厚度为0.5~3μm,由InAs/GaSb超晶格组成,每周期由12-16ML InAs和4-10ML GaSb构成,Be的掺杂浓度为1×1015cm-3~5×1015cm-3且不低于所述P型空穴势垒层中Be的掺杂浓度。
4.根据权利要求3所述的势垒增强同型异质结II类超晶格长/长波双色红外探测器,其特征在于,所述P型空穴势垒层厚度为100nm-200nm,由InAs/GaSb/AlSb/GaSb超晶格组成,每周期由16-22ML InAs、3-5ML GaSb、4-6ML AlSb、3-5ML GaSb构成,Be的掺杂浓度为1×1015cm-3~5×1015cm-3。
5.根据权利要求4所述的势垒增强同型异质结II类超晶格长/长波双色红外探测器,其特征在于,所述P型第二长波吸收层厚度为0.5-3μm,由InAs/GaSb超晶格组成,每周期由12-16ML InAs和4-10ML GaSb构成,Be的掺杂浓度为1×1015cm-3~1×1016cm-3且不低于所述P型空穴势垒层中Be的掺杂浓度。
6.根据权利要求5所述的势垒增强同型异质结II类超晶格长/长波双色红外探测器,其特征在于,
所述P型第一欧姆接触层为在GaSb中掺杂Be形成,Be的掺杂浓度为5×1017cm-3~2×1018cm-3,与所述第一电极形成欧姆接触;
所述P型第二欧姆接触层为在InAs中掺杂Be形成,Be掺杂浓度为5×1017cm-3~2×1018cm-3,与所述第二电极形成欧姆接触。
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