[发明专利]图像处理方法及装置在审

专利信息
申请号: 202111266147.1 申请日: 2021-10-28
公开(公告)号: CN113902665A 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 王钦 申请(专利权)人: 北京达佳互联信息技术有限公司
主分类号: G06T5/50 分类号: G06T5/50;G06T5/00;G06T11/60
代理公司: 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 代理人: 王茹
地址: 100085 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 图像 处理 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种图像处理方法,其特征在于,包括:

获取原始面部图像上的待处理区域以及与所述待处理区域对应的美妆素材;

基于所述待处理区域的亮度和饱和度,生成所述美妆素材的美妆弱化参数,其中,所述美妆弱化参数用于指示对所述美妆素材进行弱化处理的程度;

基于所述美妆弱化参数对所述美妆素材进行弱化处理,得到弱化处理后的美妆素材;

将所述弱化处理后的美妆素材与所述原始面部图像进行融合处理,得到目标美妆图像。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述待处理区域的亮度和饱和度,生成所述美妆素材的美妆弱化参数,包括:

根据所述待处理区域的亮度,对预设的初始饱和度阈值进行调整,得到调整后的饱和度阈值;

根据所述待处理区域的饱和度与所述调整后的饱和度阈值之间的差值,确定所述美妆素材的美妆弱化参数。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述待处理区域的亮度,对预设的初始饱和度阈值进行调整,得到调整后的饱和度阈值,包括:

当所述待处理区域的亮度小于预设的第一亮度阈值,基于所述待处理区域的亮度降低所述初始饱和度阈值,得到所述调整后的饱和度阈值;

当所述待处理区域的亮度大于预设的第二亮度阈值,基于所述待处理区域的亮度提高所述初始饱和度阈值,得到所述调整后的饱和度阈值;

当所述待处理区域的亮度大于等于所述第一亮度阈值,且小于等于所述第二亮度阈值,保持所述初始饱和度阈值不变;

其中,所述第一亮度阈值小于所述第二亮度阈值。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述待处理区域的饱和度与所述调整后的饱和度阈值之间的差值,确定所述美妆素材的美妆弱化参数,包括:

获取预先设置的饱和度与饱和度阈值之间的差值与美妆弱化参数的映射关系,其中,所述美妆弱化参数的数值处于预设区间内;

根据所述映射关系,得到所述待处理区域的饱和度与所述调整后的饱和度阈值之间的差值所对应的所述美妆素材的美妆弱化参数。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

在所述美妆素材的美妆弱化参数小于零的情况下,根据所述待处理区域的亮度提高所述美妆弱化参数,得到中间变量;

在所述中间变量小于零的情况下,将所述中间变量的数值确定为所述美妆弱化参数,在所述中间变量大于或等于零的情况下,将所述美妆弱化参数设置为零。

6.根据权利要求1至5任一项所述的方法,其特征在于,所述基于所述美妆弱化参数对所述美妆素材进行弱化处理,得到弱化处理后的美妆素材,包括:

根据所述美妆素材的美妆弱化参数对所述美妆素材中的各个像素值进行处理,根据经处理的各个像素值得到所述弱化处理后的美妆素材。

7.一种图像处理装置,其特征在于,包括:

获取模块,被配置为获取原始面部图像上的待处理区域以及与所述待处理区域对应的美妆素材;

生成模块,被配置为基于所述待处理区域的亮度和饱和度,生成所述美妆素材的美妆弱化参数,其中,所述美妆弱化参数用于指示对所述美妆素材进行弱化处理的程度;

处理模块,被配置为基于所述美妆弱化参数对所述美妆素材进行弱化处理,得到弱化处理后的美妆素材;

合成模块,被配置为将所述弱化处理后的美妆素材与所述原始面部图像进行融合处理,得到目标美妆图像。

8.一种电子设备,其特征在于,包括:

处理器;

用于存储所述处理器可执行指令的存储器;

其中,所述处理器被配置为执行所述指令,以实现如权利要求1至6中任一项所述的图像处理方法。

9.一种计算机可读存储介质,其特征在于,当所述计算机可读存储介质中的指令由电子设备的处理器执行时,使得电子设备能够执行如权利要求1至6中任一项所述的图像处理方法。

10.一种计算机程序产品,包括计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至6中任一项所述的图像处理方法。

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