[发明专利]显示面板及显示面板的制作方法有效

专利信息
申请号: 202111257965.5 申请日: 2021-10-27
公开(公告)号: CN114023794B 公开(公告)日: 2023-05-05
发明(设计)人: 杨宗鹏 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H10K59/124 分类号: H10K59/124;H10K71/00;H10K59/121
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 马广旭
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 制作方法
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

基板,包括显示区和围绕所述显示区的非显示区;

至少一挡墙,设置于与所述非显示区相对应的所述基板表面,所述挡墙围绕所述显示区;

发光单元层,设置于与所述显示区相对应的所述基板表面;

第一无机膜层,覆盖于与所述显示区相对应的所述基板表面并覆盖所述发光单元层;

第二无机膜层,部分覆盖于与所述显示区相对应的所述第一无机膜层表面,所述第二无机膜层的至少一侧边上设置有至少一个凹口,所述第二无机膜层与所述挡墙之间存在间隙,所述间隙露出与所述显示区相对应的所述第一无机膜层的至少部分表面,其中,所述第二无机膜层包括主体及凸出设置于所述主体至少一侧边的至少两个凸出部,设置于同一侧边上的相邻两所述凸出部与所述主体配合形成一所述凹口,所述凸出部的厚度小于所述主体的厚度,以形成所述第二无机膜层侧边的二级阶梯状截面结构;

有机膜层,位于所述显示区内,所述有机膜层覆盖所述第二无机膜层;

第三无机膜层,覆盖所述有机膜层。

2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述凹口的数量为多个,沿所述第二无机膜层周向间隔排布,形成所述第二无机膜层的锯齿状边缘。

3.如权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第二无机膜层的相对两侧边的所述凹口的数量相同,所述第二无机膜层的相邻两侧边的所述凹口数量相同或者相异。

4.如权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述凹口的内表面的形状为方形或弧形。

5.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述凸出部上表面远离所述主体一端开设有槽口,形成所述凸出部的阶梯状截面结构,所述凸出部与所述主体配合形成所述第二无机膜层的三级或三级以上阶梯状截面结构。

6.如权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述主体的一侧边上凸出部的数量为一个,所述凸出部的长度大于、小于或者等于相邻侧边的长度。

7.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一无机膜层延伸至所述非显示区并覆盖所述挡墙,所述第三无机膜层延伸至所述非显示区并覆盖位于所述非显示区的所述第一无机膜层表面。

8.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一无机膜层、所述第二无机膜层和所述第三无机膜层的膜层材料分别选自如材料中的一种:SiN膜层、SiON膜层和SiO膜层。

9.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:

提供基板;

在所述基板的显示区内形成发光单元层;

在所述基板的非显示区形成挡墙,所述挡墙围绕所述显示区;

在所述基板表面形成第一无机膜层,所述第一无机膜层覆盖所述发光单元层并覆盖所述挡墙;

在与所述显示区相对应的所述第一无机膜层表面形成第二无机膜层,所述第二无机膜层部分覆盖所述第一无机膜层,所述第二无机膜层的至少一侧边上设置有至少一个凹口,所述第二无机膜层与所述挡墙之间留有间隙,其中,所述第二无机膜层包括主体及凸出设置于所述主体至少一侧边的至少两个凸出部,设置于同一侧边上的相邻两所述凸出部与所述主体配合形成一所述凹口,所述凸出部的厚度小于所述主体的厚度,以形成所述第二无机膜层侧边的二级阶梯状截面结构;

在所述第二无机膜层表面形成有机膜层,所述有机膜层填充所述间隙;

在所述有机膜层表面形成第三无机膜层,所述第三无机膜层覆盖所述有机膜层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111257965.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top