[发明专利]一种耐候型自清洁工业胶带及其制备工艺

权利要求书

1.一种耐候型自清洁工业胶带，其特征在于，所述基体（1），所述基体（1）的上表面设置有自清洁层（2），所述基体（1）的下表面依次设置有耐候型胶层（3）、离型层（4）；所述基体（1）从上至下由改性聚酰亚胺膜、纯聚酰亚胺薄膜、改性聚酰亚胺膜复合而成，所述改性聚酰亚胺膜是将改性纳米二氧化钛与间苯二胺、4,4’-(4,4’-异丙基二苯氧基)二酞酸酐通过原位聚合制得聚酰胺酸溶液，然后将聚酰胺酸溶液热亚胺化制得；其中，所述间苯二胺与4,4’-(4,4’-异丙基二苯氧基)二酞酸酐的摩尔比为1:1.02,所述改性纳米二氧化钛的添加量为间苯二胺与4,4’-(4,4’-异丙基二苯氧基)二酞酸酐总重量的5-7%；所述自清洁层（2）是将自清洁乳液稀释至固含量为1.2%-1.5%后通过涂布机涂布在基体（1）上表面制得，所述自清洁乳液，按质量份数计，主要由以下组分构成：催化剂1-3份、十二烷基磺酸钠3-5份、脂肪醇聚氧乙烯醚3-5份、异丙醇3-5份、NaOH3-5份、马来酸酐8-10份、硅烷偶联剂15-20份、甲基三乙氧基硅烷50-60份、γ-氨丙基三乙氧基硅烷50-60份、去离子水90-100份。

2.根据权利要求1所述的耐候型自清洁工业胶带，其特征在于，所述基体（1）的厚度为0.021mm，所述改性聚酰亚胺膜、纯聚酰亚胺薄膜的厚度均为0.007 mm；所述自清洁层（2）的厚度为0.005mm，所述耐候型胶层（3）的厚度为0.015 mm，所述离型层（4）的厚度为0.01 mm。

3.根据权利要求1所述的耐候型自清洁工业胶带，其特征在于，所述耐候型胶层（3），按质量份数计，主要由以下组分构成：聚甲基硅烷40-50份、四甲基四乙烯基环四硅氧烷40-50份、碳化硼粉30-40份、改性纳米二氧化硅10-15份、抗紫外吸收剂UV-531 3-5份、紫外吸收剂TINUVIN 360 1-3份、促进剂ZDEC-75 0.5-1份。

4.根据权利要求1所述的耐候型自清洁工业胶带，其特征在于，所述离型层（4）包括底材和附着在底材表面的离型膜，所述离型膜是由表面活性剂形成的薄膜，所述离型层（4）中的离型膜与耐候型胶层（3）接触；所述表面活性剂为阴离子表面活性剂或非离子型表面活性剂，或由阴离子表面活性剂与非离子表面活性剂复配得到；所述表面活性剂的HLB值为10-20。

5.根据权利要求1至4任一项所述耐候型自清洁工业胶带的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：

（1）将硅烷偶联剂、异丙醇依次加入反应器中，反应器加热至70℃，搅拌20-30min，然后分3-5批向反应器中滴加马来酸酐，马来酸酐滴加完毕，保持温度70℃，反应3-5h，得到单体一；将十二烷基硫酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚、NaOH、去离子水依次加入另一个反应器中，室温搅拌45-60min，然后滴加甲基三乙氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷，滴完后保温反应10-12h，再滴加单体一，滴完后保温反应 10-12h，得到自清洁乳液；

（2）将聚甲基硅烷与四甲基四乙烯基环四硅氧烷放入反应器中，反应温度设置在100-110℃，在惰性气氛保护下，反应2-3h，得到液态先驱体；向液态先驱体中加入碳化硼粉、改性纳米二氧化硅、抗紫外吸收剂UV-531、紫外吸收剂TINUVIN 360、促进剂ZDEC-75，通过搅拌器搅拌至均匀，得到耐候型胶层（3）；

（3）将自清洁乳液稀释至固含量为1.2%-1.5%后通过涂布机涂布在基体（1）上表面，制得自清洁层（2），将表面活性剂涂布在底材表面上干燥除去溶剂后形成离型膜，得到离型层（4）；将耐候型胶层（3）通过涂布机涂布在基体（1）下表面，静置10-20min后，使离型层（4）与耐候型胶层（3）接触，然后经压延复合，放入烘箱中，以6℃/min的速度进行升温，在90-110℃的温度下固化20 30min，使基体（1）、耐候型胶层（3）、离型层（4）完全固化，保温10-20min后，自然冷却降至室温，得到胶带。