[发明专利]适用性高的芯片版图设计方法在审

专利信息
申请号: 202111241927.0 申请日: 2021-10-25
公开(公告)号: CN113947054A 公开(公告)日: 2022-01-18
发明(设计)人: 程韬 申请(专利权)人: 程韬
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392
代理公司: 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 代理人: 陈菊
地址: 310000 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 适用性 芯片 版图 设计 方法
【权利要求书】:

1.适用性高的芯片版图设计方法,其特征在于:包括以下具体步骤:

步骤一:规格制定,首先根据客户的要求(包括芯片需要的具体功能和性能方面的要求)进行功能模块的划分;

步骤二:布局规划,功能模块划分完成后,在芯片总体上确定各种功能电路的摆放位置,在进行电路摆放位置时需要根据版图设计规则进行规划;

步骤三:布线,功能模块在芯片上的位置确定后,开始对各个功能模块中的电路结构进行设计,并对所述电路结构中线体采用对称的方式进行排布;

步骤四:元件布局设计,当上述三个步骤完成后,开始对元件进行布局设计,元件设计的具体步骤为:

S1、运行版图编辑工具,建立版图文件;

S2、在画图窗口内根据几何参数值调元器件和子单元的版图;

S3、在不同的层内进行元器件和子单元之间的连接;

S4、调用DRC(设计规则检查)程序进行设计规则检查,修改错误;

S5、调用电路提取程序提取版图对应的元件参数和电路拓扑;

S6、与分析阶段建立的电路图文件结合进行版图与电路图对照分析,即LVS(Layout-vs-Schemetic);

S7、存储版图文件,供今后修改和重用。

2.根据权利要求1所述的适用性高的芯片版图设计方法,其特征在于:所述步骤二中的版图设计规则是版图设计和工艺之间的接口,包括各层的最小宽度、层与层之间的最小间距。

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