[发明专利]一种细胞捕获装置及其加工方法

权利要求书

1.一种细胞捕获装置，其特征在于：包括基底(1)，所述基底(1)上设置若干个金字塔形捕获结构(2)；每个金字塔形捕获结构(2)包括纳米线金字塔，纳米线金字塔下方设有空心圆柱(4)。

2.根据权利要求1所述的一种细胞捕获装置，其特征在于：所述基底(1)上设置有若干标识符(3)，标识符(3)位于透明基底(1)上，用于定位各个金字塔形捕获结构。

3.根据权利要求2所述的一种细胞捕获装置，其特征在于：标识符(3)为挖空材料或者沉积材料实现标识符精细加工，标识符为数字、字母、符号的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的一种细胞捕获装置，其特征在于：所述纳米线金字塔为空心的四面体结构，仅保留边缘的纳米线。

5.根据权利要求4所述的一种细胞捕获装置，其特征在于：所述纳米线材料为Si₃N₄。

6.根据权利要求1所述的一种细胞捕获装置，其特征在于：所述金字塔形捕获结构(2)的位于基底(1)上的键合层，键合层材料为富硅氮化硅(SiRN)。

7.根据权利要求1所述的一种细胞捕获装置，其特征在于，所述金字塔形捕获结构(2)的尺寸为亚微米到微米量级，由具体需要捕获的细胞确定。

8.根据权利要求1所述的一种细胞捕获装置，其特征在于：所述基底(1)为透明的长方体状，材料为硅硼酸玻璃、聚苯乙烯、透明陶瓷一种或多种。

9.一种精细加工如权利要求1-8任一项所述细胞捕获装置的加工方法：其特征在于，包括以下步骤：

1)清洗硅基底，在硅基底上低压化学气相沉积(LPCVD)沉积SiRN层，采用光刻工艺完成标识符的加工；

2)采用光刻加工刻蚀孔径，并以键合层为掩膜采用腐蚀的方法加工倒金字塔；

3)采用LPCVD共形沉积Si₃N₄层；

4)采用腐蚀的方法各向同性腐蚀，只留下纳米线在倒金字塔凹槽尖端，完成四面镂空的纳米线金字塔结构的加工；

5)清洗硅基底，并抛光至光学级；

6)键合硅基底和四面镂空的纳米线金字塔结构。

10.根据权利要求9所述的一种细胞捕获装置，其特征在于，对金字塔形捕获结构(2)和标识符(3)进行阵列化加工，进行大规模捕获并研究单个细胞。