[发明专利]一类基于C2v对称氮杂稠环的化合物及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种化合物，其特征在于，所述化合物为C2v对称的化合物，具有式I所示结构式：

其中，R₁，R₂独立地选自C₁～C₃₀的烷基I、C₁～C₃₀的卤代烷基I、C₄～C₂₀的芳基I、C₄～C₂₀的取代芳基I、具有式I-1所示基团中的一种；

其中，所述取代芳基I的取代基选自烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、卤素、烷硫基、卤代烷硫基中的一种；

R'—M—* 式I-1

其中，R'选自C₁～C₃₀的烷基II、C₁～C₃₀的卤代烷基II中的一种；

M选自O或S；

X₁，X₂独立地选自O、S、Se或Te；

所述EG₁、EG₂来自EG化合物，所述EG化合物选自5，6-二氟-3-(二氰基亚甲基)靛酮、6-氟-3-(二氰基亚甲基)靛酮、5，6-二氯-3-(二氰基亚甲基)靛酮、3-(二氰基亚甲基)靛酮中的一种；

Ar₁，Ar₂独立地选自C₄～C₂₀的芳基，其中含有至少一个噻吩环与式I中吡咯环形成稠环。

2.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述Ar₁，Ar₂为一个噻吩环与式I中吡咯环形成稠环。

3.一种权利要求1～2任一项所述化合物的制备方法，其特征在于，至少包括以下步骤：

(1)包含化合物1的物料与含化合物2的物料通过Negishi反应得到包含化合物3的物料：

其中，Ar'选自Ar₁、Ar₂中的至少一种；

(2)包含化合物3的物料与包含烷基胺R₂NH₂的物料通过Buchwald-Hartwig反应得到包含化合物4的物料：

(3)包含化合物4的物料通过Vilsmeier-Haack反应得到包含化合物5的物料：

(4)包含化合物5的物料和包含EG化合物的物料通过Knoevenagel反应得到如式I所示结构化合物。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述的Negishi反应为偶联反应，反应溶剂选自乙醚、四氢呋喃或正己烷中的至少一种；催化剂包括[1,1'-双(二苯基膦基)二茂铁]二氯化钯，所述催化剂的添加量为所述化合物1摩尔量的1％～10％；反应温度为25～60℃，反应时间为6～48小时；化合物1与所述化合物2的摩尔比为1:(2.3～6.0)。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述Buchwald-Hartwig反应为关环反应，反应温度为60～110℃，反应时间为3～15小时；溶剂选自甲苯、二氧六环、苯中的至少一种；去质子化试剂包括叔丁醇钠；所述化合物3、叔丁醇钠、烷基胺R₂NH₂的摩尔比为1:(10～20):(2～8)；催化剂包括双二亚苄基丙酮钯和双二苯基膦二茂铁，双二亚苄基丙酮钯与双二苯基膦二茂铁的摩尔比为1:(3.5～4.5)，所述双二亚苄基丙酮钯加入量为步骤(1)所得的化合物3的摩尔量的1％～10％。

6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中所述Vilsmeier-Haack反应为醛基化反应，反应温度为50～85℃，反应时间为12～36小时；所采用的甲酰化试剂为三氯氧磷和N,N-二甲基甲酰胺；所述化合物4，三氯氧磷和N,N-二甲基甲酰胺间的摩尔比为1：(13～20)：(15～20)。