[发明专利]曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法

说明书

控制系根据使用多个读头(66a～66d)中测量光束照射于第1格子群之标尺(152a～152c)及第2格子群之标尺(152d～152f)之至少两个标尺之至少四个读头(66a～66d)所测量之移动体之位置信息，取得与标尺(152a～152c)及标尺(152d～152f)之至少两个相关之格子修正信息，格子修正信息用在使用测量光束照射于标尺(152a～152c)及标尺(152d～152f)中之至少两个格子之至少三个读头的移动体之移动控制。

本发明为申请日为2016年09月29日，申请号为“201680057941.6”，发明名称为“曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法”的发明专利的分案申请。

技术领域

本发明涉及曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法，更详言之，涉及用在制造液晶显示组件等微型组件之光刻工艺之曝光装置及曝光方法、以及使用曝光装置或曝光方法之平面显示器制造方法。

背景技术

以往，在制造液晶显示组件、半导体组件(集成电路等)等之电子组件(微型组件)之光刻工艺中，使用步进扫描方式之曝光装置(所谓扫描步进机(亦称为扫描机))等，其一边使光罩(photomask)或标线片(以下总称为“光罩”)与玻璃板或晶圆(以下总称为“基板”)沿着既定扫描方向(SCAN方向)同步移动，一边将形成在以能量光束照明之光罩之图案转印至基板上。

作为此种曝光装置，已知有使用基板载台装置所具有之棒反射镜(长条之镜)求出曝光对象基板在水平面内之位置信息的光干涉仪系统者(参照例如专利文献1)。

此处，在使用光干涉仪系统求出基板之位置信息之情形，无法忽视所谓空气摇晃之影响。另外，上述空气摇晃之影响，虽能藉由使用编码器系统来减低，但因近年基板之大型化，难以准备能涵盖基板全移动范围的标尺。

在先技术文献

专利文献1：美国专利申请公开第2010/0018950

发明内容

根据本发明的第1方式，提供一种曝光装置，经由光学系对物体照射照明光，其具备：移动体，配置于前述光学系下方，保持前述物体；驱动系，能在与前述光学系的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1、第2方向上移动前述移动体；测量系，设置成将格子构件与多个读头中的一方设于前述移动体，且使前述格子构件与前述多个读头中的另一方与前述移动体对向，前述格子构件在前述第1方向上将多个第1格子区域彼此分离配置且将在前述第2方向上从前述多个第1格子区域分离配置的多个第2格子区域在前述第1方向上彼此分离配置，前述多个读头对前述格子构件分别照射测量光束且能在前述第2方向上移动，前述测量系具有测量在前述第2方向上的前述多个读头的位置信息的测量装置，根据前述多个读头中前述测量光束照射于前述多个第1及第2格子区域中的至少两个格子区域的至少三个读头的测量信息与前述测量装置的测量信息，测量至少在前述既定平面内的3自由度方向上的前述移动体的位置信息；以及控制系，根据由前述测量系测量的位置信息，控制前述驱动系；前述控制系根据使用前述多个读头中前述测量光束照射于前述多个第1及第2格子区域中的至少两个格子区域的至少四个读头所测量的前述移动体的位置信息，取得与前述多个第1及第2格子区域中的至少两个格子区域相关的格子修正信息；前述格子修正信息用在使用前述测量光束照射于前述多个第1及第2格子区域中的至少两个格子区域的前述至少三个读头的前述移动体的移动控制。

根据本发明的第2方式，提供一种平面显示器制造方法，其包含：使用第1方式的曝光装置使基板曝光的动作；以及使曝光后的基板显影的动作。