[发明专利]用于放射性同位素安全制备和注入的系统

权利要求书

1.一种用于制备在正电子发射断层摄影术中使用的H₂¹⁵O的方法，所述方法包括以下步骤：

-在升高的温度下将包含¹⁵O和H₂的气体混合物221转化成H₂¹⁵O，

-提供阀控制元件250以调节所述气体混合物221的流量，

-将H₂¹⁵O与来自第一盐水给送器的盐水合并以产生H₂¹⁵O盐溶液，

-提供第一辐射检测器240以测量所述H₂¹⁵O盐溶液中的放射性，

-通过该第一辐射检测器240来调节所述气体混合物221的流量，

-提供储器281以接收该H₂¹⁵O盐溶液，

-提供用于从所述储器281中排出任何过量气体的第二气体废物装置，

-提供第三泵，该第三泵在一端处连接至该储器281并且在另一端处连接至衰变管线，该衰变管线连接至液体废物装置，

-用该第三泵将任何过量液体废物从该储器281泵送穿过该衰变管线并且泵送到该液体废物装置中，

-提供输送管301和第二泵302，以使该H₂¹⁵O盐溶液从该储器281循环穿过环路元件320并返回到所述储器281中，

-提供调节器件340，

-在该环路元件320中建立第一推注量的所述H₂¹⁵O盐溶液，该第一推注量具有预限定的体积和放射性浓度，

-提供第二盐水给送器401，

-从所述第二盐水给送器401收集预限定的第二推注量的盐水，

-将所述第二推注量以预限定的速度注入该环路元件320中，使得该第二推注量将该第一推注量推入患者管线520中，

-用邻近该患者管线520的第二辐射检测器440测量所述第一推注量的注入曲线，

从而通过所述第二推注量的注入速度和体积来调节该第一推注量的注入曲线。

2.一种用于以下系统的调节装置，该系统用于制备并注入在正电子发射断层摄影术中使用的H₂¹⁵O，该调节装置包括：

-第二盐水给送器401，

-环路元件320，该环路元件包括第一推注量的所述H₂¹⁵O盐溶液，

-注入装置420，该注入装置用于从所述第二盐水给送器401收集预限定的第二推注量的盐水并且将所述第二推注量的盐水以预限定的速度注入该环路元件320中，使得该第二推注量的盐水将该第一推注量的H₂¹⁵O盐溶液推入患者管线520中，

-该环路元件320与该患者管线520流体连通，

-邻近该患者管线520的第二辐射检测器440，所述辐射检测器测量所述第一推注量的注入曲线，

-第一盐水给送器290，用于提供制备H₂¹⁵O盐溶液所需的盐水，

其中所述第二推注量的注入速度和体积调节该第一推注量的注入曲线。

3.一种用于制备并注入在正电子发射断层摄影术中使用的H₂¹⁵O的系统，所述系统包括：

-用于生产H₂¹⁵O盐溶液的生产装置，

-用于建立供注入的第一推注量的推注量装置，所述第一推注量包括所述H₂¹⁵O盐溶液并且具有预限定的体积和放射性浓度，所述推注量装置包括阀100，以及

-根据权利要求2所述的用于调节该第一推注量的注入曲线的调节装置。