[发明专利]在基材表面制备微纳结构的方法和表面具有微纳结构的基材及其应用

权利要求书

1.一种在基材表面制备微纳结构的方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供基材和具有微纳米尺寸的三维立体结构的微纳纹理模板；

在所述基材上施加转印UV胶；

通过UV转印将所述微纳纹理模板施加在所述转印UV胶上，再通过UV固化制备过渡胶层，移除所述微纳纹理模板，制备中间体；

采用蚀刻等离子源对所述中间体进行等离子蚀刻，以去除所述过渡胶层，并在所述基材的表面蚀刻出具有微纳米尺寸的三维立体结构。

2.根据权利要求1所述的在基材表面制备微纳结构的方法，其特征在于，所述微纳米尺寸的三维立体结构呈有序排列结构和/或无序排列结构。

3.根据权利要求2所述的在基材表面制备微纳结构的方法，其特征在于，所述微纳米尺寸的三维立体结构为锥体形、柱体形、球面体形、线体形和不规则形状中的至少一种。

4.根据权利要求1至3任一项所述的在基材表面制备微纳结构的方法，其特征在于，在等离子蚀刻的过程中，还包括持续补充所述等离子蚀刻源，并且去除所述蚀刻等离子源与所述过渡胶层和/或所述基材的表面所产生的气态化合物的过程。

5.根据权利要求1至3任一项所述的在基材表面制备微纳结构的方法，其特征在于，所述基材为树脂类有机物材料、含硅类无机物材料、金刚石、蓝宝石和金属中的至少一种。

6.根据权利要求5所述的在基材表面制备微纳结构的方法，其特征在于，所述树脂类有机物材料选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚酰亚胺、聚苯乙烯、聚氨酯、聚丙烯和聚乙烯中的至少一种；

所述含硅类无机物材料选自玻璃、石英、硅、碳化硅和陶瓷中的至少一种。

7.根据权利要求5所述的在基材表面制备微纳结构的方法，其特征在于，所述基材为树脂类有机物材料，所述蚀刻等离子源为含氧等离子气源；

所述基材为含硅类无机物材料、金刚石、蓝宝石或金属，所述蚀刻等离子源为含氟等离子气源或含氯等离子气源。

8.根据权利要求1至3任一项所述的在基材表面制备微纳结构的方法，其特征在于，UV固化包括：采用UV平行光源或UV非平行光源或UV激光光源照射，使UV转印胶胶水中的UV光引发剂激活胶水中的主材料反应，固化并黏附在基材表面。

9.根据权利要求1至3任一项所述的在基材表面制备微纳结构的方法，其特征在于，还包括如下步骤：对完成等离子蚀刻操作的所述基材的表面进行清洗；和/或

还包括如下步骤：采用表面修饰材料在完成清洗操作的所述基材的表面制备修饰层。

10.根据权利要求9所述的在基材表面制备微纳结构的方法，其特征在于，所述表面修饰材料为疏水材料，对应的所述表面修饰层为疏水层；或

所述表面修饰材料为疏油材料，对应的所述表面修饰层为疏油层；

或所述表面修饰材料微疏水疏油材料，对应的所属表面修饰层为疏水疏油层。

11.权利要求1至10任一项所述的在基材表面制备微纳结构的方法制得的表面具有微纳结构的基材。

12.一种表面功能部件，其特征在于，包括权利要求11所述的表面具有微纳结构的基材。