[发明专利]背光模组及显示装置在审

专利信息
申请号: 202111170562.7 申请日: 2021-10-08
公开(公告)号: CN113885252A 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 杨勇;查国伟 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357;G02B5/18
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 熊恒定
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 背光 模组 显示装置
【权利要求书】:

1.一种背光模组,其特征在于,包括:

灯板组件,包括灯板和设置于所述灯板上的多个呈阵列分布的LED芯片,所述灯板包括间隔设置的多个第一区域和多个第二区域,所述第二区域位于所述第一区域两侧,所述LED芯片位于所述第一区域;以及

纳米光栅组件,设置于所述灯板组件上且位于所述LED芯片的出光侧,所述纳米光栅组件包括多个与所述LED芯片对应设置的光栅周期单元,每个所述光栅周期单元包括多个呈阵列分布的子光栅单元,多个所述子光栅单元包括多个反射式子光栅单元和多个透过式子光栅单元;

其中,所述反射式子光栅单元对应所述第一区域的分布密度大于所述透过式子光栅单元对应所述第一区域的分布密度,所述反射式子光栅单元对应所述第二区域的分布密度小于所述透过式子光栅单元对应所述第二区域的分布密度。

2.根据权利要求1所述的背光模组,其特征在于,沿所述第一区域指向所述第二区域的方向,所述反射式子光栅单元的分布密度逐渐减小,所述透过式子光栅单元的分布密度逐渐增大。

3.根据权利要求1所述的背光模组,其特征在于,所述反射式子光栅单元对应所述第一区域的分布密度的范围为90%~95%,所述透过式子光栅单元对应所述第一区域的分布密度为5%~10%。

4.根据权利要求1或3所述的背光模组,其特征在于,所述反射式子光栅单元对应所述第二区域的分布密度的范围为5%~10%,所述透过式子光栅单元对应所述第二区域的分布密度为90%~95%。

5.根据权利要求1所述的背光模组,其特征在于,所述反射式子光栅单元包括多个第一光栅微结构和反射层,所述反射层设置于所述第一光栅微结构远离所述灯板组件的一侧;所述透过式子光栅单元包括多个第二光栅微结构。

6.根据权利要求5所述的背光模组,其特征在于,相邻两个所述第一光栅微结构之间的间隔尺寸范围为100纳米~1微米,相邻两个所述第二光栅微结构之间的间隔尺寸范围为100纳米~1微米。

7.根据权利要求1所述的背光模组,其特征在于,沿所述第一区域指向所述第二区域的方向,多个所述反射式子光栅单元的衍射级次逐渐增大。

8.根据权利要求1所述的背光模组,其特征在于,所述反射式子光栅单元和所述透过式子光栅单元混杂排列。

9.根据权利要求1所述的背光模组,其特征在于,每一所述子光栅单元的尺寸小于或等于100微米。

10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1~9任一项所述的背光模组;以及

显示面板,设置于所述背光模组的出光侧。

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