[发明专利]一种强耐候性偏光板及其制备方法在审
| 申请号: | 202111164566.4 | 申请日: | 2021-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN114035257A | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
| 发明(设计)人: | 林丹丹;严兵华;张良宝;黄源 | 申请(专利权)人: | 恒美光电股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02B1/08;G02B1/14;G02B1/18;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 严志平 |
| 地址: | 215300 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 强耐候性 偏光 及其 制备 方法 | ||
1.一种强耐候性偏光板,其特征在于,包括偏光层以及覆于偏光层至少一面的保护层,所述保护层为透湿疏水层。
2.根据权利要求1所述的强耐候性偏光板,其特征在于,所述透湿疏水层为改性丙烯酸系树脂薄膜或环状聚烯烃系树脂薄膜,改性方式为采用加成反应或取代反应向丙烯酸系树脂或环状聚烯烃系树脂引入亲水基团。
3.根据权利要求2所述的强耐候性偏光板,其特征在于,所述透湿疏水层为改性环戊烯类树脂薄膜。
4.根据权利要求1所述的强耐候性偏光板,其特征在于,所述透湿疏水层的透湿率数值为150~300g/(0.2827m2*24h),厚度为20~45μm,全透过率≥90%,雾度≤1.6%,位相差R0为45~55nm,面外相位延迟Rth为25~135nm,接触角<90°。
5.根据权利要求1所述的强耐候性偏光板,其特征在于,包括偏光层以及通过粘接剂粘接于偏光层两侧的上保护层和下保护层,所述上保护层表面覆有外保护膜,所述下保护层表面依次覆有PSA胶和离型膜,所述上保护层和下保护层中的至少一层为透湿疏水层。
6.根据权利要求5所述的强耐候性偏光板,其特征在于,所述上保护层和下保护层中的一层为透湿疏水层,另一层为亚克力材料、聚对苯二甲酸乙二醇酯材料、纤维素酯树脂材料、纤维素树脂材料、环烯烃类树脂材料中的一种或几种。
7.根据权利要求1所述的强耐候性偏光板,其特征在于,包括偏光层以及通过粘接剂粘接于偏光层一侧的上保护层,所述偏光层的另一侧依次覆有PSA胶和离型膜,所述上保护层为透湿疏水层,所述上保护层表面覆有外保护膜。
8.一种权利要求1~7中任一项所述的强耐候性偏光板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
对偏光层和透湿疏水层进行化学或物理处理;
在处理后的偏光层的至少一面贴合处理后的透湿疏水层作为保护层;
对贴合完成的半成品进行活性能量射线固化和烘箱处理,即得强耐候性偏光板。
9.根据权利要求8所述的强耐候性偏光板的制备方法,其特征在于,偏光层为PVA偏光层,对PVA偏光层的化学或物理处理步骤包括:
对PVA原膜进行膨润;
膨润后进行染色,染色槽中含有KI/I2/HB,KI浓度为0~1%,I2浓度为0~0.5%,HB浓度为0~1%,pH为3~5,染色温度为22~35℃,滞留时间为50~90秒;
染色后进行架桥,架桥槽中KI浓度为1.8~2.5%,HB浓度为3.5~4.5%,pH为3~5,温度为25~35℃,滞留时间为20~40秒;
架桥后进行延伸,延伸槽中KI浓度为3.6~4.2%,HB浓度为3.3~3.8%,总拉伸倍率为6~7倍,延伸温度为55~65℃,滞留时间为50~100秒;
延伸后进行色相调整,调整槽中KI浓度为3.6~4.2%, HB浓度<0.7%,pH为3~5,温度为25~30℃,滞留时间为20~40秒;
最后进入烘箱调整含水率。
10.根据权利要求8所述的强耐候性偏光板的制备方法,其特征在于,对透湿疏水层的化学或物理处理步骤包括:将高透湿率疏水材料置于烘箱干燥,烘箱温度为70~100℃,停留时间为10~60秒,处理后的透湿疏水层从出烘箱到与偏光层贴合的时间间隔为30~280秒。
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