[发明专利]显示面板和显示装置在审
| 申请号: | 202111163506.0 | 申请日: | 2021-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN114242753A | 公开(公告)日: | 2022-03-25 |
| 发明(设计)人: | 曾洋 | 申请(专利权)人: | 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 娜拉 |
| 地址: | 430000 湖北省武汉市武汉东湖新技*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
第一遮光层,所述第一遮光层包括至少一个第一开口;
器件层,所述器件层包括多个透光区,所述透光区包括第一透光区和第二透光区;所述第一透光区与至少一个所述第一开口交叠,所述第二透光区与非第一开口交叠;
辅助遮光部,所述辅助遮光部与所述第二透光区交叠。
2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二透光区的宽度大于5um。
3.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一遮光层为连续的绝缘层。
4.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一遮光层的透光率为1%~50%。
5.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述辅助遮光部包括金属材料。
6.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述辅助遮光部位于所述第二透光区和所述第一遮光层之间。
7.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
衬底;
位于所述衬底一侧的阵列层;
所述器件层位于所述阵列层;
所述器件层包括电路结构,至少部分所述电路结构形成非透光区。
8.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
衬底;
位于所述衬底一侧的阵列层;
位于所述阵列层背离所述衬底一侧的像素定义层;
所以第一遮光层复用所述像素定义层。
9.如权利要求1、5或6中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
衬底;
位于所述衬底一侧的阵列层;
位于所述阵列层背离所述衬底一侧的阳极;
所述辅助遮光部与所述阳极同层同材料。
10.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述辅助遮光部复用为信号线。
11.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述辅助遮光部接固定点位或屏蔽信号。
12.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述辅助遮光部包括第一辅助遮光部和第二辅助遮光部;
所述第一辅助遮光部到其相邻的第一透光区的距离小于所述第二辅助遮光部到相邻所述第一透光区的距离;
所述第一辅助遮光部的面积大于所述第二辅助遮光部的面积。
13.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述辅助遮光部包括第一辅助遮光部和第二辅助遮光部;
所述第一辅助遮光部到所述第一透光区的距离小于所述第二辅助遮光部到所述第一透光区的距离;
所述第一辅助遮光部超出其对应的所述第二透光区的尺寸小于所述第二辅助遮光部超出其对应的第二透光区的尺寸。
14.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述辅助遮光部包括第一辅助遮光部和第二辅助遮光部;
所述第一辅助遮光部和所述第二辅助遮光部位于不同层。
15.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括阵列排布的发光器件;
所述发光器件在第一方向和第二方向的排布周期相同;
所述第一方向与所述第二方向相交。
16.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一开口为用于小孔成像的成像小孔。
17.一种显示装置,其特征在于,包括:
权利要求1-16中任意一项所述的显示面板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





