[发明专利]电磁场近场测试方法、系统、可读存储介质及计算机设备有效

专利信息
申请号: 202111161940.5 申请日: 2021-09-30
公开(公告)号: CN113917239B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 苏栋才;东君伟 申请(专利权)人: 中山香山微波科技有限公司
主分类号: G01R29/08 分类号: G01R29/08
代理公司: 深圳瑞天谨诚知识产权代理有限公司 44340 代理人: 温青玲
地址: 528437 广东省中山市火*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电磁场 近场 测试 方法 系统 可读 存储 介质 计算机 设备
【权利要求书】:

1.一种电磁场近场测试系统,其特征在于,包括计算机设备和分别与计算机设备连接的用于产生测试信号的信号源、信号接收机、运动装置和至少一探头,其中信号源、信号接收机、探头和待测物DUT形成测试信号的闭合链路;

所述运动装置用于接受所述计算机设备的控制,使DUT和探头发生随机相对运动,产生多个随机测量点;

当所述探头与所述信号接收机连接时,所述信号源与DUT连接,当所述探头与所述信号源连接时,所述信号接收机与DUT连接,所述探头用于采集多个随机测量点的电磁场信号测量值,并直接传输给所述信号接收机或者传输给DUT后再由DUT传输给所述信号接收机;

所述信号接收机用于对所述探头采集的电磁场信号测量值进行分析处理后提供给计算机设备;

所述计算机设备用于选择任意一个坐标系,使得待求的DUT的电磁场系数呈现出稀疏特征;在选择的坐标系下,控制运动装置使DUT和探头发生随机相对运动,产生多个随机测量点,并确定探头的一个或多个姿态,得出分别与探头的姿态对应的电磁场系数;获取经所述信号接收机分析处理后所有探头采集到的电磁场信号测量值,得到测量值集合;根据测量值集合和分别与探头的姿态对应的电磁场系数,根据电磁学中的洛伦茨互易定律,并通过凸优化算法求解出DUT的电磁场系数,并根据所述DUT的电磁场系数得到DUT的远场方向图或者DUT以外任意一点的电场和/或磁场。

2.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述运动装置与DUT连接,以控制DUT运动;或者,所述运动装置与探头连接,以控制探头运动;或者,所述运动装置同时与DUT和探头连接,以控制DUT和探头运动。

3.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述信号源是独立的外部信号发射装置或者是射频器件中自带的信号发射装置;所述信号接收机是独立的外部信号接收装置或者是射频器件中自带的信号接收装置;

或者,所述信号源和信号接收机是一体的。

4.一种电磁场近场测试方法,其特征在于,所述方法包括:

S101、选择任意一个坐标系,使得待求的DUT的电磁场系数呈现出稀疏特征;

S102、在选择的坐标系下,控制运动装置使DUT和探头发生随机相对运动,产生多个随机测量点,并确定探头的一个或多个姿态,得出分别与探头的姿态对应的电磁场系数;

S103、获取所有探头采集到的电磁场信号测量值,得到测量值集合;

S104、根据测量值集合、随机测量点的位置和分别与探头的姿态对应的电磁场系数,根据电磁学中的洛伦茨互易定律,通过凸优化算法求解出DUT的电磁场系数;

S105、根据所述DUT的电磁场系数得到DUT的远场方向图或者DUT以外任意一点的电场和/或磁场。

5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述S102具体为:

在选择的坐标系下,定义随机分布的测量点,在DUT以外的空间区域Ωc随机生成N个测量点pi,1≤i≤N,N是大于1的自然数;

以探头中心点为原点,确定探头在选择的坐标系下对应的K个姿态,K是大于或等于1的自然数;

根据探头的规格以及探头的K个姿态,得出分别与探头的K个姿态对应的K个电磁场系数。

6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述S103具体为:

获取所有探头采集到的电磁场信号测量值,得到测量值集合其中表示探头位于j姿态,位于测量点pi时,对DUT的测量值。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山香山微波科技有限公司,未经中山香山微波科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111161940.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top