[发明专利]一种高低能射束融合剂量分布的方法在审

专利信息
申请号: 202111158708.6 申请日: 2021-09-30
公开(公告)号: CN113856069A 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 周凌宏;亓孟科;徐圆;宋婷;凌庆庆 申请(专利权)人: 南方医科大学
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 赵蕊红
地址: 510515 广东省广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 低能 融合 剂量 分布 方法
【权利要求书】:

1.一种高低能射束融合剂量分布的方法,其特征在于,包括步骤有:

步骤一、采集图像;

步骤二、根据步骤一的图像对应的组织模体种类及步骤一的图像中对象的深度,在数据库中选取对应能量的电子线和X射线,并根据步骤一的图像中对象的尺寸分别选高能电子线设备及低能X射线设备对应尺寸的限光筒和施照器,所述数据库包括在不同组织模体种类下,电子线能量及深度的对应关系以及X射线能量及深度的对应关系;

步骤三、根据步骤二中选取的电子线、X射线、限光筒和施照器,使用蒙特卡罗软件分别模拟电子线、X射线在对象中的剂量分布,并进行剂量校正;

步骤四、设定对象中心点(x,y,z)的混合剂量值c;

步骤五、根据步骤三得到的校正后剂量和步骤四的对象中心点(x,y,z)的混合剂量值c,迭代计算电子线和X射线的最终照射剂量。

2.根据权利要求1所述的高低能射束融合剂量分布的方法,其特征在于,所述数据库的建立方法为:

首先使用蒙特卡罗软件分别对兆伏级高能电子线放射源的完整结构和千伏级低能X射线放射源的完整结构进行模拟,得到对应的设备模拟结构;

然后分别进行不同能量的电子线在不同组织模体中的辐射剂量模拟计算与特性分析,建立作用深度与电子线能量的对应关系;同时分别进行不同能量的X射线在不同组织模体中的辐射剂量模拟计算与特性分析,建立作用深度与X射线能量的对应关系。

3.根据权利要求2所述的高低能射束融合剂量分布的方法,其特征在于:所述辐射剂量模拟计算具体为利用蒙特卡罗软件和所述设备模拟结构,分别对不同能量的电子线和不同能量的X射线在入射组织模体的过程进行模拟,计算在多种组织模体中的沉积剂量分布。

4.根据权利要求3所述的高低能射束融合剂量分布的方法,其特征在于:所述特性分析具体为根据所述模拟剂量分布分别计算对应电子线和X射线在中心轴上的百分深度剂量曲线以及有效作用深度;其中电子线的有效作用深度为90%剂量深度,X射线的有效作用深度为10%剂量深度。

5.根据权利要求4所述的高低能射束融合剂量分布的方法,其特征在于:在所述步骤三中的剂量校正具体为,将电子线的蒙特卡罗模拟校正系数乘以电子线的剂量分布,得到单位剂量下电子线剂量分布B,并计算电子线百分深度剂量曲线PB;将X射线的蒙特卡罗模拟校正系数乘以X射线的剂量分布,得到单位剂量下X射线剂量分布A。

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