[发明专利]一种聚酰亚胺抗静电膜及其制备方法

权利要求书

1.一种聚酰亚胺抗静电膜，其特征在于，包括聚酰亚胺和抗静电剂，所述抗静电剂是聚苯胺接枝石墨烯的抗静电剂。

2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺抗静电膜，其特征在于，所述抗静电剂是通过下述方法制备得到：将石墨烯进行对苯氨基功能化后得到对苯氨基化石墨烯，所得对苯氨基化石墨烯与苯胺单体进行聚合，得到聚苯胺接枝石墨烯的抗静电剂。

3.根据权利要求1或2所述的聚酰亚胺抗静电膜，其特征在于，所述石墨烯与苯胺单体的质量比为1:15-25。

4.根据权利要求1-3任一项所述的聚酰亚胺抗静电膜，其特征在于，所述苯胺单体为苯胺或其衍生物。

5.根据权利要求1-4任一项所述的聚酰亚胺抗静电膜，其特征在于，所述对苯氨基化石墨烯具体是通过下述方法制备得到：将石墨烯氧化形成氧化石墨烯后，再依次与对苯二异氰酸酯，水进行反应，得到对苯氨基化石墨烯。

6.根据权利要求1-5任一项所述的聚酰亚胺抗静电膜，其特征在于，所述聚酰亚胺是由二胺、二酐缩聚后得到。

7.根据权利要求6所述的聚酰亚胺抗静电膜，其特征在于，所述二胺是4，4'-二氨基二苯醚、2，2'-二(三氟甲基)二氨基联苯、1，3-二(4'-氨基苯氧基)苯、4，4'-二氨基二苯硫醚、4，4'-二氨基二苯甲烷、3，3'-二氨基二苯基砜、4，4'-二氨基二苯基砜或4，4'-二氨基二苯甲酮中的至少一种；

所述二酐为4，4'-(六氟异丙烯)二酞酸酐、4，4'-氧双邻苯二甲酸酐、3，3'，4，4'-联苯四羧酸二酐、1，2，3，4-环丁烷四羧酸二酐、1，2，4，5-环戊烷四羧酸二酐或1，2，4，5-环己烷四羧酸二酐中的至少一种。

8.根据权利要求1-7任一项所述的聚酰亚胺抗静电膜，其特征在于，所述聚酰亚胺和抗静电剂的质量比为1:0.01-0.1。

9.一种权利要求1-8任一项所述的聚酰亚胺抗静电膜的制备方法，其特征在于，包括：将所述聚酰亚胺和抗静电剂加入有机溶剂中溶解混匀，涂布成膜后，升温除去溶剂，即得到所述聚酰亚胺抗静电膜。

10.根据权利要求9所述的聚酰亚胺抗静电膜的制备方法，其特征在于，所述升温过程包括：升温至90℃，干燥1h，升温至160℃，干燥1h，升温至230℃，干燥2h，升温至280℃，干燥1h。