[发明专利]文本矫正方法、装置、设备及存储介质

权利要求书

1.一种文本矫正方法，其特征在于，包括：

获取待矫正的原始文本图像，所述原始文本图像中包含至少一个文本行，所述文本行为以行划分的文本数据；

对每个所述文本行添加掩膜；

响应于检测到第一文本行的掩膜为弯曲的掩膜，对所述第一文本行进行矫正。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述第一文本行进行矫正，包括：

基于所述第一文本行的掩膜确定所述第一文本行的外部轮廓参数；

基于所述外部轮廓参数将所述第一文本行的像素复制至预先创建的目标文本图像中，得到与所述第一文本行对应的矫正文本行，所述目标文本图像为基于所述原始文本图像新建的空白文本图像。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对每个所述文本行添加掩膜，包括：

将所述原始文本图像输入至预先训练的文本检测模型中，得到掩膜文本图像，所述掩膜文本图像中的每个文本行上具有掩膜。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括基于以下方式检测第一文本行的掩膜为弯曲的掩膜：

基于所述掩膜的轮廓检测所述第一文本行的外部轮廓上的点的坐标；

基于所述外部轮廓上的点的坐标确定所述第一文本行的掩膜为弯曲的掩膜。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述基于所述外部轮廓上的点的坐标确定所述第一文本行的掩膜为弯曲的掩膜，包括：

沿X轴方向从所述外部轮廓中获取预设数量的采样点，其中，所述采样点均为所述外部轮廓的上边缘点，或者，所述采样点均为所述外部轮廓的下边缘点；

基于所述采样点的坐标计算相邻两个所述采样点之间连线的斜率；

响应于所述斜率的导数大于或等于设定导数阈值，确定所述第一文本行的掩膜为弯曲的掩膜。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述基于所述外部轮廓上的点的坐标确定所述第一文本行的掩膜为弯曲的掩膜，包括：

基于所述外部轮廓上的点的坐标确定所述外部轮廓的最小外接矩形；

计算所述外部轮廓所包围区域的面积与所述最小外接矩形的面积的比值；

响应于所述比值小于或等于设定比值阈值，确定所述第一文本行的掩膜为弯曲的掩膜。

7.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所述第一文本行的掩膜确定所述第一文本行的外部轮廓参数，包括：

基于所述掩膜的轮廓确定所述第一文本行的外部轮廓上每个点与坐标系原点之间的距离；

基于所述距离确定所述外部轮廓上的预设定位点；

将所述预设定位点的Y轴坐标确定为所述第一文本行的外部轮廓参数。

8.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所述第一文本行的掩膜确定所述第一文本行的外部轮廓参数，包括：

基于所述掩膜的轮廓检测所述第一文本行的外部轮廓的上下边界之间的差值；

基于所述差值确定所述外部轮廓的平均轮廓高度；

将所述平均轮廓高度确定为所述第一文本行的外部轮廓参数。

9.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所述第一文本行的掩膜确定所述第一文本行的外部轮廓参数，包括：

基于所述掩膜的轮廓检测所述第一文本行的外部轮廓的上边界上每个点的Y轴坐标及最高点的Y轴坐标；

将所述每个点的Y轴坐标与所述最高点的Y轴坐标之间的差值确定为所述第一文本行的外部轮廓参数。

10.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所述外部轮廓参数将所述第一文本行的像素复制至预先创建的目标文本图像中，包括：

基于所述外部轮廓参数确定用于将所述第一文本行的像素复制至所述目标文本图像中的像素坐标调整参数；

基于所述像素坐标调整参数和所述第一文本行的像素的坐标，将所述第一文本行的像素复制至所述目标文本图像中。