[发明专利]光源装置、曝光装置和物品制造方法

权利要求书

1.一种光源装置，包括：保持器，所述保持器构造成保持灯，所述灯包括具有柱形表面的金属基部；聚光镜，所述聚光镜构造成会聚由所述灯产生的光；以及喷嘴，所述喷嘴包括喷射孔，所述喷射孔构造成喷射气体以便冷却所述金属基部，

其中，在包括所述喷射孔的中心轴线的直线与所述金属基部的中心轴线之间的距离的范围为从不小于所述柱形表面的半径的1/2至不大于所述半径。

2.根据权利要求1所述的光源装置，还包括：第二喷嘴，所述第二喷嘴包括第二喷射孔，所述第二喷射孔构造成喷射气体以便冷却所述金属基部，

其中，在包括所述第二喷射孔的中心轴线的第二直线与所述金属基部的中心轴线之间的距离的范围为从不小于所述柱形表面的半径的1/2至不大于所述半径。

3.根据权利要求2所述的光源装置，其中：包括所述喷射孔的中心轴线的所述直线和包括所述第二喷射孔的中心轴线的所述第二直线彼此平行。

4.根据权利要求2所述的光源装置，其中：所述金属基部的中心轴线布置在包括所述喷射孔的中心轴线的所述直线与包括所述第二喷射孔的中心轴线的所述第二直线之间。

5.根据权利要求2所述的光源装置，其中：在关于与所述金属基部的中心轴线垂直的平面的正交投影中，包括所述喷射孔的中心轴线的所述直线与包括所述第二喷射孔的中心轴线的所述第二直线彼此交叉。

6.根据权利要求5所述的光源装置，其中：沿与所述金属基部的中心轴线平行的方向，在所述直线和所述柱形表面之间的交点与所述第二直线和所述柱形表面之间的交点之间的距离为不小于10mm。

7.根据权利要求2所述的光源装置，还包括：调节机构，所述调节机构构造成调节供给至所述喷嘴的气体的流量以及供给至所述第二喷嘴的气体的流量。

8.根据权利要求1所述的光源装置，其中：引线与所述金属基部连接，所述金属基部布置在所述喷射孔与所述金属基部和所述导线之间的连接部分之间。

9.根据权利要求8所述的光源装置，其中：在关于XYZ坐标系中的X-Y平面的正交投影中，所述喷射孔布置在第二象限和第三象限中的一个中，所述引线的至少由来自至少聚光镜的光通量照射的部分布置在由第一象限和第四象限形成的区域中，在所述XYZ坐标系中，所述金属基部的中心轴线为Z轴，平行于所述喷射孔的中心轴线的轴线为X轴。

10.根据权利要求1所述的光源装置，其中：所述喷嘴布置在从所述灯发射且由所述聚光镜反射的有效光通量之外。

11.根据权利要求1所述的光源装置，其中：从所述喷射孔喷射的气体的流速分布关于所述喷射孔的中心轴线轴对称。

12.根据权利要求11所述的光源装置，其中：所述喷射孔为圆形开口，圆形开口的直径落在不小于1mm至不大于2mm的范围内，从所述喷射孔喷射的气体的最大流速落在不小于50m/sec至不大于100m/sec的范围内。

13.根据权利要求1所述的光源装置，其中：所述聚光镜是椭圆反射镜。

14.根据权利要求13所述的光源装置，其中：所述金属基部的柱形表面的中心轴线与所述聚光镜的光轴匹配。

15.一种曝光装置，包括：

在权利要求1至14中任意一项所述的光源装置；

照明光学系统，所述照明光学系统构造成使用来自所述光源装置的光来照明原稿；以及

投影光学系统，所述投影光学系统构造成将所述原稿的图案投影至基板上。

16.一种物品制造方法，包括：

使用根据权利要求15中所述的曝光装置来曝光基板；

显影在所述曝光中被曝光的基板；以及

处理经过了所述显影的基板，以便获得物品。