[发明专利]一种具有金属纹理的抛釉砖及其制备方法在审
申请号: | 202111141211.3 | 申请日: | 2021-09-28 |
公开(公告)号: | CN113979785A | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
发明(设计)人: | 谢志军;赵存河;刘忠良;卢洋华 | 申请(专利权)人: | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 |
主分类号: | C04B41/89 | 分类号: | C04B41/89;C04B41/86;C03C8/00;C03C8/14;B28B11/04;B28B11/06;B28B11/00;B44C5/04;B44F9/10 |
代理公司: | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;牛彦存 |
地址: | 528211 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 金属 纹理 抛釉砖 及其 制备 方法 | ||
本发明公开一种具有金属纹理的抛釉砖及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤:在砖坯表面施底釉;在施底釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案;在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施全抛釉;在施全抛釉后的砖坯表面丝网印刷金属干粒釉;将丝网印刷金属干粒釉后的砖坯经过烧成并抛光,得到所述具有金属纹理的抛釉砖。所述制备方法在烧成后金属干粒牢固地嵌入全抛釉中,尤其是金属干粒的底部下陷到全抛釉中且顶部浮出全抛釉层的表面,浮凸在全抛釉层的金属干粒经过抛光形成金属颜色和金属光泽,获得的抛釉砖中金属干粒和釉面结合紧密,立体感强,金属感显著,装饰效果好。
技术领域
本发明属于建筑陶瓷领域,具体涉及一种具有金属纹理的抛釉砖及其制备方法。
背景技术
全抛釉瓷质砖是一种经过釉面装饰后施一定厚度的透明全抛釉层,然后烧成并对表面进行抛光的陶瓷产品。抛光后陶瓷砖表面光滑,平整度高,釉下图案纹理清晰自然。该图案纹理与上层的透明全抛釉融合使产品的立体层次更加分明。但是由于全抛釉瓷质砖需要对产品表面进行抛光,所以在其表面很难再进行其它种类的表面装饰。
当前陶瓷行业主要通过喷墨打印技术制备抛釉砖。陶瓷墨水的细度高,使用量相对较低,对于线条类纹理,喷墨打印的抛釉砖仅能模拟其颜色却无法获得精细纹理,立体效果偏差。另外,受到墨水发色的限制,当前仍难以制备具有金属颜色和/或金属光泽效果的抛釉砖。
发明内容
针对上述问题,本发明提供一种具有金属纹理的抛釉砖及其制备方法,所述制备方法在烧成后金属干粒牢固地嵌入全抛釉中,尤其是金属干粒的底部下陷到全抛釉中且顶部浮出全抛釉层的表面,浮凸在全抛釉层的金属干粒经过抛光形成金属颜色和金属光泽,获得的抛釉砖中金属干粒和釉面结合紧密,立体感强,金属感显著,装饰效果好。
第一方面,本发明提供一种具有金属纹理的抛釉砖的制备方法。所述制备方法包括以下步骤:
在砖坯表面施底釉;
在施底釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案;
在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施全抛釉;
在施全抛釉后的砖坯表面丝网印刷金属干粒釉;
将丝网印刷金属干粒釉后的砖坯经过烧成并抛光,得到所述具有金属纹理的抛釉砖。
较佳地,所述全抛釉的化学成分包括:以质量百分比计,SiO2:46-58%;Al2O3:12-15%;CaO:5.5-7.5%;MgO:5.5-7.0%;K2O:3.0-5.0%;Na2O:2.5-4.5%;ZnO:8.0-10.0%。
较佳地,所述全抛釉的比重为1.84-1.85g/cm3,施釉量为500-600g/m2。
较佳地,烧成后全抛釉的莫氏硬度不低于3级。
较佳地,所述金属干粒釉的原料组成包括:以重量份计,金属干粒45-100份,下陷釉10-30份,印膏70-100份,水10-20份;优选地,下陷釉占金属干粒的质量百分比为20-40%。
较佳地,所述下陷釉的化学成分包括:以质量百分比计,PbO:30-45%;SiO2:25-40%;Al2O3:10-14%;CaO:3-5%;V2O5:1-2%;K2O:1-3%;ZnO:0.9-3%。
较佳地,所述金属干粒的粒径为100-200目;优选地,所述金属干粒的颗粒级配包括:以质量百分比计,100-120目:10-20%,120-160目:70-85%,160-200目:5-10%。
较佳地,烧成后金属干粒釉中金属干粒的底部下陷到全抛釉中且顶部浮出全抛釉层。
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