[发明专利]一种改善曝光焦距均匀性的方法

权利要求书

1.一种改善曝光焦距均匀性的方法，其特征在于，至少包括：

步骤一、提供前层版图，将所述前层版图中疏密度不同的图形区域分为密集图形、半密集图形、半稀疏图形和稀疏图形；

步骤二、提供当层版图，确定当层的曝光图形区域，根据该曝光图形区域的位置确定与其对应的前层版图中图形区域的疏密度为密集图形；

步骤三、利用所述前层版图在晶圆上形成目标结构；

步骤四、在所述目标结构上进行当层的光刻胶涂布；

步骤五、对所述晶圆进行切片，量测所述目标结构中疏密度不同的图形区域上的所述光刻胶厚度；得到不同光刻胶厚度与所述疏密度的对应关系；

步骤六、提供与所述前层版图中密集图形所对应的当层的曝光焦距，利用该曝光焦距和步骤二中所述当层版图对步骤四中涂布有光刻胶的目标结构进行当层曝光图形区域的光刻胶曝光；

步骤七、将步骤五中得到的不同光刻胶厚度与所述疏密度对应关系映射到前层疏密度与当层曝光焦距的对应关系；

步骤八、利用步骤六中与前层密集图形对应的当层的曝光焦距以及步骤八中的前层疏密度与当层曝光焦距的对应关系，得到前层不同疏密度对应的当层的曝光焦距。

2.根据权利要求1所述的改善曝光焦距均匀性的方法，其特征在于：步骤一中用透光率表征所述疏密程度。

3.根据权利要求1所述的改善曝光焦距均匀性的方法，其特征在于：步骤二中所述曝光图形区域与该曝光图形区域对应的前层版图中的图形区域叠对。

4.根据权利要求1所述的改善曝光焦距均匀性的方法，其特征在于：步骤三中利用所述前层版图对所述晶圆进行光刻和刻蚀，在所述晶圆上形成所述目标结构。

5.根据权利要求1所述的改善曝光焦距均匀性的方法，其特征在于：步骤五中利用膜厚机量测所述目标结构中疏密度不同的图形区域上的所述光刻胶的厚度。

6.根据权利要求1所述的改善曝光焦距均匀性的方法，其特征在于：步骤六中与所述前层版图中密集图形所对应的当层的曝光焦距作为考虑前层为密集图形时，当层曝光的最佳焦距。

7.根据权利要求1所述的改善曝光焦距均匀性的方法，其特征在于：步骤六中与所述当层曝光图形区域叠对的前层图形区域为密集图形。

8.根据权利要求1所述的改善曝光焦距均匀性的方法，其特征在于：步骤七中所述前层疏密度与当层曝光焦距的对应关系中，该当层曝光焦距为考虑前层疏密度对当层影响时，当层曝光的最佳焦距。

9.根据权利要求1所述的改善曝光焦距均匀性的方法，其特征在于：步骤七中所述不同光刻胶厚度与所述疏密度对应关系映射到前层疏密度与当层曝光焦距的对应关系中，该映射的规律从大量实验数据得出。

10.根据权利要求1所述的改善曝光焦距均匀性的方法，其特征在于：步骤八中得到前层不同疏密度对应的当层的曝光焦距的方法包括：根据所述前层疏密度与当层曝光焦距的对应关系、对步骤六中与所述前层版图中密集图形所对应的当层的曝光焦距进行差值补偿，补偿后得到不同疏密度对应的当层的曝光焦距的差值写进AGILE文件，供后续曝光调用。