[发明专利]一种钨硅靶坯的制备方法在审
| 申请号: | 202111133848.8 | 申请日: | 2021-09-27 |
| 公开(公告)号: | CN113862623A | 公开(公告)日: | 2021-12-31 |
| 发明(设计)人: | 姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;李岢 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;B22F9/04;B22F3/14;C22C27/04 |
| 代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 王岩 |
| 地址: | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 钨硅靶坯 制备 方法 | ||
1.一种钨硅靶坯的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:
(1)将钨粉和硅粉的混粉进行高能球磨,得到初合金粉;
(2)将步骤(1)得到的初合金粉置于模具中并进行抽真空处理,之后依次进行第一热处理、保温保压和冷却,得到所属钨硅靶坯。
2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述混粉中钨粉和硅粉的质量比为(2.3-2.8):1。
3.如权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述高能球磨在保护气氛下进行;
优选地,所述保护气氛的分压为0.1-0.2MPa;
优选地,所述保护气氛包括氮气和/或惰性气体。
4.如权利要求1-3任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述高能球磨中磨球与混粉的质量比为(9-11):1;
优选地,步骤(1)所述高能球磨的时间为50-60h。
5.如权利要求1-4任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)所述模具中粉末的平面度<0.5mm;
优选地,步骤(2)所述抽真空处理的终点为绝对真空度<40Pa。
6.如权利要求1-5任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)所述第一热处理的升温速率为8-12℃/min;
优选地,步骤(2)所述第一热处理的升温过程中对粉末施加有恒定压力;
优选地,所述恒定压力的大小为3.7-4.7MPa。
7.如权利要求1-6任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)所述第一热处理的保温温度为1300-1400℃;
优选地,步骤(2)所述第一热处理的时间为1-2h。
8.如权利要求1-7任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)所述保温保压的压力为35-40MPa;
优选地,步骤(2)所述保温保压的升压时间≤60min;
优选地,步骤(2)所述保温保压的时间为2-3h。
9.如权利要求1-8任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)所述冷却在保护气氛下进行;
优选地,所述保护气氛包括氮气和/或惰性气体;
优选地,所述保护气氛的通入终点为至炉内压力P为-0.08MPa≤P≤-0.06MPa;
优选地,步骤(2)所述冷却的终点温度<200℃。
10.如权利要求1-9任一项所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:
(1)将钨粉和硅粉的混粉进行高能球磨,得到初合金粉;所述混粉中钨粉和硅粉的质量比为(2.3-2.8):1;所述高能球磨在保护气氛下进行;所述保护气氛的分压为0.1-0.2MPa;所述保护气氛包括氮气和/或惰性气体;所述高能球磨中磨球与混粉的质量比为(9-11):1;所述高能球磨的时间为50-60h;
(2)将步骤(1)得到的初合金粉置于模具中并进行抽真空处理,之后依次进行第一热处理、保温保压和冷却,得到所属钨硅靶坯;所述模具中粉末的平面度<0.5mm;所述抽真空处理的终点为绝对真空度<40Pa;所述第一热处理为在升温速率为8-12℃/min升温至1300-1400℃处理1-2h,同时升温过程中对粉末施加有3.7-4.7MPa的恒定压力;所述保温保压在升压时间≤60min内控制压力为35-40MPa,之后保压2-3h;所述冷却在保护气氛下进行;所述保护气氛包括氮气和/或惰性气体;所述保护气氛的通入终点为至炉内压力P为-0.08MPa≤P≤-0.06MPa;所述冷却的终点温度<200℃。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波江丰电子材料股份有限公司,未经宁波江丰电子材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111133848.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类





