[发明专利]一种便于空气排除的光照处理系统

说明书

本发明属于半导体生产行业，尤其涉及一种便于空气排除的光照处理系统，所述便于空气排除的光照处理系统包括输送装置、罩壳以及控制模块；所述罩壳设置于输送装置的上方，所述罩壳内沿输送装置的输送方向依次设置有第一风帘、第二风帘以及灯箱，所述第一风帘与所述第二风帘之间、第二风帘与所述灯箱之间均设置有用于检测气体成份的传感器；所述控制模块用于根据传感器的检测结果控制所述第二风帘的气量。本发明通过设置第一风帘以及第二风帘，并设置了传感器，可以通过检测风帘后侧的空气的成份或者含量控制后续后帘的风量，从而更有效地排除空气，使光照反应更为稳定可靠。

技术领域

本发明属于半导体生产行业，尤其涉及一种便于空气排除的光照处理系统。

背景技术

在半导体行业、显示模组生产行业以及高档木地板生产行业，需要用到光照处理以实现粘合固化或者进行表面处理等。

光照处理通常采用具有高能量的光波，利用光波照射产生的能量使被照射对象发生化学反应。此时，需要隔绝空气，以防止空气中的活性气体参与反应，生成非目标物质。

现有技术中，通常仅仅依靠灯箱通入惰性气体形成气氛保护，这种方式的可靠性不高，无法充分地排净反应区域内的空气，需要解决。

发明内容

本发明实施例的目的在于提供一种便于空气排除的光照处理系统，旨在解决现有技术空气排除不够彻底的问题。

本发明实施例是这样实现的，一种便于空气排除的光照处理系统，所述便于空气排除的光照处理系统包括输送装置、罩壳以及控制模块；

所述罩壳设置于输送装置的上方，所述罩壳内沿输送装置的输送方向依次设置有第一风帘、第二风帘以及灯箱，所述第一风帘与所述第二风帘之间、第二风帘与所述灯箱之间均设置有用于检测气体成份的传感器；

所述控制模块用于根据传感器的检测结果控制所述第二风帘的气量。

本发明实施例提供的便于空气排除的光照处理系统通过设置第一风帘以及第二风帘，并在第一风帘与第二风帘之间设置了传感器，可以通过检测风帘后侧的空气的成份或者含量控制后续后帘的风量，从而更有效地排除空气，使光照反应更为稳定可靠。

附图说明

图1为本发明实施例提供的便于空气排除的光照处理系统的正视结构示意图；

图2为本发明实施例提供的便于空气排除的光照处理系统的俯视结构示意图；

图3为本发明实施例提供的便于空气排除的照射装置的结构图；

图4为本发明实施例中便于空气排除的照射装置的隔层俯视图。

图中：1-灯箱，21-第一风帘，22-第二风帘，23-第三风帘，3-输送装置，4-传感器，5-外壳，6-壳体，7-进气管，8-隔层，9-出气口，10-康达孔，11-灯管，12-固定块。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

以下结合具体实施例对本发明的具体实现进行详细描述。

如图1-2所示，本发明实施例提供了一种便于空气排除的光照处理系统，包括输送装置3、罩壳以及控制模块；

所述罩壳设置于输送装置3的上方，所述罩壳内沿输送装置3的输送方向依次设置有第一风帘21、第二风帘22以及灯箱1，所述第一风帘21与所述第二风帘22之间、第二风帘22与所述灯箱1之间均设置有用于检测气体成份的传感器4；

所述控制模块用于根据传感器4的检测结果控制所述第二风帘22的气量。