[发明专利]一种高耐磨、具有立体模具效果的薄型陶瓷板及其制备方法有效
| 申请号: | 202111130844.4 | 申请日: | 2021-09-26 |
| 公开(公告)号: | CN113978171B | 公开(公告)日: | 2022-09-20 |
| 发明(设计)人: | 萧礼标;胡志敏;曹国芹;吴君林;杨元东;覃增成 | 申请(专利权)人: | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 |
| 主分类号: | B44C5/04 | 分类号: | B44C5/04;B44C1/00;B28B11/00;B28B11/04;C03C8/14;C03C8/02;C04B35/14 |
| 代理公司: | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;牛彦存 |
| 地址: | 528211 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 耐磨 具有 立体 模具 效果 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
本发明公开一种高耐磨、具有立体模具效果的薄型陶瓷板及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤:将陶瓷基料压制成坯体;在坯体表面喷墨打印数码白色墨水和普通颜色墨水后干燥再打印深刻墨水;所述数码白色墨水的原料组成包括:以质量百分比计,氧化锆陶瓷粉体35‑45%,溶剂45‑55%,分散剂3‑5%,表面活性剂1‑5%;所述深刻墨水的原料组成包括:以质量百分比计,酯类溶剂45‑75%,高钙高镁熔块25‑45%,疏水性偶联剂1‑3%,聚合物分散剂1‑3%;在打印深刻墨水后的坯体表面施高耐磨保护釉以形成凹凸纹理;将施高耐磨保护釉后的坯体干燥并烧成,得到所述高耐磨、具有立体模具效果的薄型陶瓷板。
技术领域
本发明涉及陶瓷产品领域,尤其涉及一种高耐磨、具有立体模具效果的薄型陶瓷板及其制备方法。
背景技术
现有技术主要通过以下方式生产具有立体模具效果的陶瓷砖:
第一,使用凹凸模具压制坯体粉料获得模具效果坯体。这种方式需要通过更新模具来调整坯体的模具纹理,且模具效果与图案纹理难以重合,不够逼真。更为关键的是,使用凹凸模具以压制成型厚度小于6mm的薄型陶瓷板时容易造成砖坯破损,工艺稳定性差。
第二,采用下陷墨水或者下陷釉料在平面坯体上制备具有下凹纹理的陶瓷砖。下陷墨水或者下陷釉料中的钒氧化物发生固相反应,以及下陷墨水或者下陷釉料的渗透性促使釉面围住的区域内形成凹面从而呈现下陷纹理。但是,下陷墨水或者下陷釉料含有的钒等会影响颜色墨水发色,导致陶瓷砖不够美观自然。
第三,通过多重施釉工艺在坯体上形成凹凸纹理。中国专利CN 112374914A公开一种带有凹凸纹理的瓷砖制作工艺,于坯体上形成釉料层、数码模具墨水层后,再覆盖第二釉料层及着色墨水层来制备具有凹凸纹理的瓷砖。该生产工艺复杂,所需设备和釉料种类繁多,成本较高。特别是所述制备工艺会在施釉过程中引入较多水分,导致砖坯强度降低。当该工艺用于3mm厚度以下的薄型陶瓷板时,砖坯的入窑水分达到2.0-2.5wt%,釉线走砖易造成破损严重,破损率可达10-30%。
发明内容
针对上述不足,本发明提供一种高耐磨、具有立体模具效果的薄型陶瓷板及其制备方法,工艺简单,生产成本低,能够有效解决因釉料带入水分多而降低砖坯强度导致砖坯破损大的技术难题,与此同时实现更加智能便捷地制备纹路自然逼真、美观精细、立体深度可调的薄型陶瓷板。
第一方面,本发明提供一种高耐磨、具有立体模具效果的薄型陶瓷板的制备方法。所述制备方法包括以下步骤:
将陶瓷基料压制成坯体;
在坯体表面喷墨打印数码白色墨水和普通颜色墨水后干燥再打印深刻墨水;所述数码白色墨水的原料组成包括:以质量百分比计,氧化锆陶瓷粉体35-45%,溶剂45-55%,分散剂3-5%,表面活性剂1-5%;所述深刻墨水的原料组成包括:以质量百分比计,酯类溶剂45-75%,高钙高镁熔块25-45%,疏水性偶联剂1-3%,聚合物分散剂1-3%;
在打印深刻墨水后的坯体表面施高耐磨保护釉以形成凹凸纹理;
将施高耐磨保护釉后的坯体干燥并烧成,得到所述高耐磨、具有立体模具效果的薄型陶瓷板。
较佳地,所述高钙高镁熔块的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:50-55%,Al2O3:5-7%,CaO:14-20%,MgO:10-15%,K2O:1-2%,Na2O:1-2%。
较佳地,所述酯类溶剂为醋酸甲酯、醋酸乙酯、棕榈酸异辛酯中的至少一种;所述聚合物分散剂为聚丙烯酸铵、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、海藻酸钠中的至少一种;所述疏水性偶联剂为钛酸酯偶联剂和/或硅烷偶联剂。
较佳地,所述深刻墨水的施加量为10-60g/m2。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蒙娜丽莎集团股份有限公司,未经蒙娜丽莎集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111130844.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





