[发明专利]一种基于Rudin-Shapiro光子晶体对和石墨烯复合结构的光学双稳态在审
| 申请号： | 202111128630.3 | 申请日： | 2021-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN113687559A | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 刘芳华 | 申请（专利权）人： | 湖北科技学院 |
| 主分类号： | G02F3/02 | 分类号： | G02F3/02;G02B1/00 |
| 代理公司： | 咸宁鸿信专利代理事务所(普通合伙) 42249 | 代理人： | 刘喜 |
| 地址： | 437100 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 rudin shapiro 光子 晶体 石墨 复合 结构 光学 双稳态 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于Rudin-Shapiro光子晶体对和石墨烯复合结构的光学双稳态，其特征在于，包括两个对称分布的二元RS光子晶体和若干石墨烯单层，所述二元RS光子晶体包括若干第一电介质层H和若干第二电介质层L，所述Rudin-Shapiro光子晶体对和石墨烯复合结构表示为HHHLGHHGLHHLGHHGLHHH；所述复合结构中存在光学分形态，对电场具有局域作用，四个石墨烯单层正好分别位于具有电场最强的位置；所述第一电介质层和第二电介质层分别为两种折射率高、低不同的均匀电介质薄片；所述第一电介质层和第二电介质层的厚度分别为各自光学波长的1/4。
2.根据权利要求1所述一种基于Rudin-Shapiro光子晶体对和石墨烯复合结构的光学双稳态，其特征在于，所述第一电介质层为高折射率材料碲化铅，所述第二电介质层为低折射率材料冰晶石。
3.根据权利要求1或2所述一种基于Rudin-Shapiro光子晶体对和石墨烯复合结构的光学双稳态，其特征在于，所述光学双稳态的上阈值、下阈值和上下阈值间隔通过石墨烯单层的化学势调控。
4.根据权利要求1或2所述一种基于Rudin-Shapiro光子晶体对和石墨烯复合结构的光学双稳态，其特征在于，所述光学双稳态的上阈值、下阈值和上下阈值间隔通过入射光波长调控。
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