[发明专利]逆合成孔径雷达成像方法、装置、电子设备及存储介质有效

专利信息
申请号: 202111125293.2 申请日: 2021-09-26
公开(公告)号: CN113567985B 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 徐刚;张邦杰;张慧;黄岩;洪伟;郭坤鹏 申请(专利权)人: 南京隼眼电子科技有限公司;东南大学
主分类号: G01S13/90 分类号: G01S13/90
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 211111 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 合成孔径雷达 成像 方法 装置 电子设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种逆合成孔径雷达成像方法,其特征在于,包括:

接收雷达发射的线性调频信号所对应的回波信号,并对所述回波信号进行预处理,以得到回波数据;

根据所述回波数据,构建结构化低秩矩阵;

将所述结构化低秩矩阵进行分解,以得到第一初值与第二初值;

基于所述第一初值和所述第二初值对所述结构化低秩矩阵进行填充,以得到填充后的结构化低秩矩阵;

基于所述填充后的结构化低秩矩阵得到逆合成孔径雷达图像;

其中,所述接收雷达发射的线性调频信号所对应的回波信号,并对所述回波信号进行预处理,以得到回波数据的步骤包括:

对所述回波信号进行解线性调频处理,得到解调后的回波信号;

对所述解调后的回波信号进行平动补偿,得到平动补偿后的回波信号;

对所述平动补偿后的回波信号进行稀疏采样处理,得到所述回波数据;

所述回波数据表示为:

其中,表示第k个散射点的散射系数与矩形窗的乘积,表示第k个散射点在初始时刻的横坐标,表示第k个散射点在初始时刻的纵坐标,表示调频斜率,表示电磁波传播速度,表示载波中心频率,表示目标转速,表示采样频率,PRF表示脉冲重复频率,j表示虚数符号,表示离散形式的快时间序数,表示离散形式的慢时间序数,表示经过稀疏采样的两维回波数据。

2.根据权利要求1所述的逆合成孔径雷达成像方法,其特征在于,所述结构化低秩矩阵是二层汉克尔矩阵。

3.根据权利要求1所述的逆合成孔径雷达成像方法,其特征在于,所述解调后的回波信号表示为:

其中,、和分别表示第k个散射点的散射系数以及在初始时刻的横纵坐标,表示脉冲宽度,表示调频斜率,表示目标转动中心与雷达的距离,表示解线性调频的参考距离,表示载波中心频率,表示电磁波传播速度,表示目标转速,表示快时间,表示慢时间,j表示虚数符号。

4.根据权利要求2所述的逆合成孔径雷达成像方法,其特征在于,所述根据所述回波数据,构建结构化低秩矩阵的步骤包括:

根据所述回波数据的第n列构造汉克尔矩阵;

利用所述回波数据的所有列构造二层汉克尔矩阵。

5.根据权利要求4所述的逆合成孔径雷达成像方法,其特征在于,根据所述第n列构造出的汉克尔矩阵表示为:

利用所述回波数据的所有列构造出的所述二层汉克尔矩阵表示为:

其中,P和Q是束参数。

6.根据权利要求2所述的逆合成孔径雷达成像方法,其特征在于,所述将所述结构化低秩矩阵进行分解,以得到第一初值与第二初值的步骤包括:

将所述二层汉克尔矩阵分解为两部分的乘积,即;

利用低秩矩阵拟合方法进行秩估计,得到第一初值和第二初值;

其中,、表示所述二层汉克尔矩阵分解后的矩阵。

7.根据权利要求2所述的逆合成孔径雷达成像方法,其特征在于,所述基于所述第一初值和所述第二初值对所述结构化低秩矩阵进行填充,以得到填充后的结构化低秩矩阵的步骤包括:

基于所述第一初值与所述第二初值构建带有约束的优化问题;

利用基于增广拉格朗日函数的交替迭代乘子法对所述带有约束的优化问题求解,以对所述结构化低秩矩阵进行填充,得到所述填充后的结构化低秩矩阵。

8.根据权利要求7所述的逆合成孔径雷达成像方法,其特征在于,所述基于所述填充后的结构化低秩矩阵得到逆合成孔径雷达图像的步骤包括:

对所述填充后的结构化低秩矩阵进行逆变换,得到逆变换矩阵;

利用距离-多普勒方法对所述逆变换矩阵进行成像处理,得到所述逆合成孔径雷达图像。

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