[发明专利]偏光片制备方法、偏光片及显示装置在审

专利信息
申请号: 202111121330.2 申请日: 2021-09-24
公开(公告)号: CN113759457A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 林仲宏;李明阳;王琬珺 申请(专利权)人: 业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;业成光电(无锡)有限公司;英特盛科技股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/14
代理公司: 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 代理人: 杨冬梅;张行知
地址: 611730 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 偏光 制备 方法 显示装置
【说明书】:

发明涉及一种偏光片制备方法、偏光片及显示装置,偏光片制备方法包括以下步骤:提供一聚乙烯醇薄膜,聚乙烯醇薄膜设有留白区;在聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层;利用染色剂对聚乙烯醇薄膜进行染色;其中,遮挡层阻挡染色剂对留白区染色,以使留白区的透光率大于预设值。上述偏光片制备方法能够解决目前为提高感应孔的光穿透率,需要对偏光片上对应感应孔的区域进行消偏光处理,增加了偏光片制备过程中的处理步骤,导致偏光片的制备过程复杂,效率较低的问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种偏光片制备方法、偏光片及显示装置。

背景技术

传统的显示屏,通常将红外感应器、环境光感应器等感应模组设置在边框区,但随着全面屏全面推广,边框区越来越窄,没有足够的空间设置感应模组,因此将感应模组设置在显示区,但显示区的偏光片会使感应模组对应的感应孔的光穿透率较低,为提高感应孔的光穿透率,需要对偏光片上对应感应孔的区域进行消偏光处理,增加了偏光片制备过程中的处理步骤,导致偏光片的制备过程复杂,效率较低。

发明内容

基于此,有必要针对目前为提高感应孔的光穿透率,需要对偏光片上对应感应孔的区域进行消偏光处理,增加了偏光片制备过程中的处理步骤,导致偏光片的制备过程复杂,效率较低的问题,提供一种偏光片制备方法、偏光片及显示装置。

一种偏光片制备方法,所述偏光片制备方法包括以下步骤:

提供一聚乙烯醇薄膜,所述聚乙烯醇薄膜设有留白区;

在所述聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层;

利用染色剂对设有所述聚乙烯醇薄膜进行染色;

其中,所述遮挡层阻挡染色剂对所述留白区染色,以使所述留白区的透光率大于预设值。

在其中一个实施例中,所述聚乙烯醇薄膜具有相对的第一侧和第二侧;所述在所述聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层具体包括:在所述聚乙烯醇薄膜的第一侧设置第一遮挡层,在所述聚乙烯醇薄膜的第二侧设置第二遮挡层。

在其中一个实施例中,所述第一遮挡层和所述第二遮挡层均被配置为永久遮挡;所述第一遮挡层和所述第二遮挡层透光设置,且所述第一遮挡层和所述第二遮挡层不被染色剂染色。

在其中一个实施例中,所述第一遮挡层在所述聚乙烯醇薄膜上的投影与所述留白区重合,所述第二遮挡层在所述聚乙烯醇薄膜上的投影与所述留白区重合。

在其中一个实施例中,所述第一遮挡层和所述第二遮挡层均被配置为临时遮挡;所述利用染色剂对设有所述聚乙烯醇薄膜进行染色之后还包括:将所述第一遮挡层和所述第二遮挡层从所述聚乙烯醇薄膜表面揭下;或者所述第一遮挡层被配置为永久遮挡;所述第一遮挡层透光设置,且不被染色剂染色;所述第二遮挡层被配置为临时遮挡;所述利用染色剂对设有所述聚乙烯醇薄膜进行染色之后还包括:将所述第二遮挡层从所述聚乙烯醇薄膜表面揭下。

在其中一个实施例中,所述遮挡层的厚度大于或等于10nm;和/或所述遮挡层包括耐高温防水保护膜。

在其中一个实施例中,所述在所述聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层的步骤具体包括:在所述聚乙烯醇薄膜的留白区贴附遮挡层;或者在所述聚乙烯醇薄膜的留白区涂布遮挡层。

在其中一个实施例中,所述预设值大于80%。

一种偏光片,所述偏光片采用如前述的偏光片制备方法制成。

一种显示装置,包括如前述的偏光片。

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