[发明专利]产品生产过程中的不良根因定位方法、装置、设备及介质

说明书

本申请的实施例提供一种产品生产过程中的不良根因定位方法、装置、设备及介质，通过对获取到的产品生产过程数据进行统计，获得产品的列联表；基于所述列联表，获得每个生产时段的信息价值IV值和卡方独立性检验的P值；筛选出P值低于预设显著水平值的多个目标生产时段；根据每个产品存储区的不良发生率以及多个所述目标生产时段的IV值，获得每个目标生产时段的不良率值；基于每个目标生产时段的不良率值，确定不良根因所在位置。相对于现有的停产对整个生产环节进行逐一排查的方式，解决了定位不良根因的效率低的技术问题。

技术领域

本发明涉及生产控制技术领域，具体涉及一种产品生产过程中的不良根因定位方法、装置、设备及介质。

背景技术

产品生产过程中(例如，面板生产)，一般包括多个生产环节，而在不同的环节可能因为各种原因造成最终产品存在缺陷，因此，需要对产品生产过程中的导致产品缺陷的不良根因寻找出来。

现有技术中，通常是停产对整个生产环节进行逐一排查，定位不良根因的效率低。

发明内容

本申请的主要目的在于提供一种产品生产过程中的不良根因定位方法、装置、设备及介质，解决现有定位产品生产过程中不良根因的效率低的技术问题。

为实现上述目的，本申请的实施例提供一种产品生产过程的不良根因定位方法，包括：

对获取到的产品生产过程数据进行统计，获得产品的列联表；其中，所述列联表中包括多个生产时段以及每个生产时段对应产品存储区中的不良情况数据，所述不良情况数据中包括不良发生率；

基于所述列联表，获得每个生产时段的信息价值IV值和卡方独立性检验的P值；

筛选出P值低于预设显著水平值的多个目标生产时段；

根据每个产品存储区的不良发生率以及多个所述目标生产时段的IV值，获得每个目标生产时段的不良率值；

基于每个目标生产时段的不良率值，确定不良根因所在位置。

可选地，所述基于每个目标生产时段的不良率值，确定不良根因所在位置的步骤，包括：

基于每个目标生产时段的不良率值，获得每个产品存储区的MIV值，所述MIV值为所述产品存储区关联的所有目标生产时段的不良率值的平均值；

根据每个产品存储区的MIV值，确定不良根因所在位置。

以产品存储区关联的所有目标生产时段的不良率值的平均值来代表产品存储区的反应不良率的参数，可以达到进一步提高不良根因定位准确率的效果。

可选地，所述根据每个产品存储区的MIV值，确定不良根因所在位置的步骤，包括：

根据每个产品存储区的MIV值，确定MIV值满足预设条件的N个目标产品存储区，1≤N≤5；

对每个目标产品存储区相关的设备进行故障排查，确定不良根因所在位置。

在确定了数量较少的几个最可能发生不良根因的目标产品存储区后，再进行故障排查，现对于现有的停机进行逐一排查，可显著提高排查效率。

可选地，所述根据每个产品存储区的MIV值，确定MIV值满足预设条件的N个目标产品存储区的步骤，包括：

根据每个产品存储区的MIV值，进行降序排列；

确定MIV值排名前N的N个产品存储区为目标产品存储区。

采用排序的方式不仅确定目标产品存储区的效率高，且准确性高。

可选地，所述根据每个产品存储区的不良发生率以及多个所述目标生产时段的IV值，获得每个目标生产时段的不良率值的步骤，包括：