[发明专利]一种抗沉降荧光粉的包覆方法

权利要求书

1.一种抗沉降荧光粉的包覆方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)包覆液制备:将纳米二氧化硅水溶液、酒精、正硅酸乙酯混合，加入纳米二氧化硅，分散后得到包覆液A；将硅油加入去离子水中，分散后加入纳米二氧化硅，分散后得到包覆液B。

2)包覆荧光粉：向荧光粉中加入去离子水，加入步骤1)所述包覆液A，控制搅拌时间，再加入步骤1)所述包覆液B，充分搅拌后沉降，将得到的包覆荧光粉取出，烘干、冷却，过筛即得到抗沉降荧光粉。

2.根据权利要求1所述的抗沉降荧光粉的包覆方法，其特征在于，步骤1)所述纳米二氧化硅水溶液、酒精、正硅酸乙酯体积比为1:1:1。

3.根据权利要求1所述的，其特征在于，步骤1)所述包覆液A中纳米二氧化硅的加入量为荧光粉重量的1-1.09％。

4.根据权利要求1所述的抗沉降荧光粉的包覆方法，其特征在于，步骤1)所述硅油与去离子水质量比为1：4-1:5，所述去离子水的温度为75℃-80℃。

5.根据权利要求1所述的抗沉降荧光粉的包覆方法，其特征在于，步骤1)所述包覆液B中纳米二氧化硅的重量是荧光粉重量的0.1％-0.7％。

6.根据权利要求1所述的抗沉降荧光粉的包覆方法，其特征在于，步骤2)所述荧光粉与去离子水质量比为1:3.5-1:3.8，所述去离子水的温度为75℃-80℃。

7.根据权利要求1所述的抗沉降荧光粉的包覆方法，其特征在于，步骤2)所述搅拌时间为2min-5min。

8.根据权利要求1所述的抗沉降荧光粉的包覆方法，其特征在于，步骤2)所述充分搅拌的搅拌时间控制在1.5h-2h，搅拌过程中将温度控制在75℃-80℃，搅拌桨的速度控制在80-90r/min。

9.根据权利要求1所述的抗沉降荧光粉的包覆方法，其特征在于，步骤2)所述烘干的温度控制在300℃，干燥时间为24小时，所述过筛为过200目尼龙筛。