[发明专利]一种常温原位生长制备UIO-66-NH2 有效
| 申请号: | 202111105154.3 | 申请日: | 2021-09-22 |
| 公开(公告)号: | CN113750812B | 公开(公告)日: | 2023-06-30 |
| 发明(设计)人: | 徐艳超;林红军;李志文;陶敏 | 申请(专利权)人: | 浙江师范大学 |
| 主分类号: | B01D67/00 | 分类号: | B01D67/00;B01D61/02 |
| 代理公司: | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人: | 杨楷;毛立群 |
| 地址: | 321004 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 常温 原位 生长 制备 uio 66 nh base sub | ||
本发明提供一种常温原位生长制备UiO‑66‑NHsubgt;2/subgt;纳滤膜的方法,包括:将聚合物原料和溶剂,配制成17%的混合溶液,在混合溶液中添加1~7%的致孔剂,配置成铸膜液,所用的致孔剂为聚乙烯吡咯烷酮(PVP);对铸膜液采用浸没式相转化的方法制备基膜;将ZrClsubgt;4/subgt;溶解在甲酸和乙醇的混合溶液中,配制成浓度为2mmol~10mmol/27ml的第一溶液,将氨基对苯二甲酸溶解在甲酸、纯水、乙醇的混合溶液中,配制成2mmol~10mmol/35ml的第二溶液;将基膜浸没在第一溶液中,静置,使基膜表面溶剂挥发得到第一膜;将第一膜浸没在第二溶液中,静置后,浸泡在无水乙醇中30min,用去离子水漂洗5min,得到UiO‑66‑NHsubgt;2/subgt;纳滤膜,该方法操作简单,膜的通量大,截留率高,易于实现工业化生产。
技术领域
本发明涉及一种膜的制备方法,具体为常温原位生长UiO-66-NH2制备纳滤膜。
背景技术
纳滤膜分离是一项先进的物质分离提纯技术,因其效率高,低耗能,单程分离度高等特点,被广泛应用于化工,医药,印染,海水淡化等领域,特别是凭借其绿色环保,分离过程中无物理化学变化等优点被广泛应用于工业废水,医疗废水和印染废水等领域的水处理过程。
原位生长法是制备纳滤分离膜的热点技术之一,该方法是指在没有任何晶体预先附着在载体表面的前提下,把载体直接浸没在生长原液中获得膜材料的过程,晶体的成核,生长以及在载体上的交联共生均在一个合成步骤中完成,理想情况下,载体的内部或表面生长出连续的MOFs晶体,这些连续的晶体膜在分离污染物的过程中起到了决定性作用。
金属有机骨架材料(MOFs)是由金属离子或离子簇与有机配体通过配位连接而成的多孔材料,根据组成,MOFs的孔隙在0.3nm到10nm范围不等,这无疑是良好的分子筛工具,使得MOFs在分离水中污染物分子时具有很高的选择性,丰富多样的孔道结构、极高的孔隙率以及优异的合成后修饰等特性为MOFs材料在膜分离领域提供了广阔的应用空间,UiO系列MOFs材料是由Zr的正八面体次级结构单元[Zr6O4(OH)4]与12个有机配体对苯二甲酸配位连接而成,由软硬酸碱理论可知,Zr4+与羧酸类配体配位是由硬酸-硬碱的方式结合,配位键具有很强的强度,因此UiO系列MOFs材料具有优异的水稳定性和热稳定性。
但是,在目前的MOFs纳滤膜的制备工艺或方法存在操作难度大,膜的通量低,截留率低难以进行工业化生产等问题。
发明内容
本发明提供一种常温常压原位生长制备UiO-66-NH2纳滤膜的方法,操作简单,膜的通量大,截留率高易于实现工业化生产。
本发明提供一种常温原位生长制备UiO-66-NH2纳滤膜的方法,包括以下步骤:
提供基膜、第一溶液和第二溶液;所述第一溶液为浓度为2mmol~10mmol/27ml的ZrCl4溶液,所述第二溶液为浓度为2mmol~10mmol/35ml的氨基对苯二甲酸溶液;将所述基膜浸没在第一溶液中,25℃下静置,使基膜表面溶剂挥发得到第一膜;
将所述第一膜浸没在第二溶液中,静置1~24h后,用去离子水漂洗,得到UiO-66-NH2纳滤膜。
进一步的,提供基膜包括:
取适量的聚合物原料和溶剂,配制成17%的混合溶液,所述聚合物原料为聚丙烯腈(PAN)、聚醚砜(PES)、聚砜(PSF)、聚酰亚胺(PI)的一种或组合,所述的溶剂为聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、二甲亚砜(DMSO)、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)的一种或组合;
在混合溶液中添加1~7%的致孔剂,配置成铸膜液,并搅拌至完全溶解,所用的致孔剂为据吡咯烷酮(PVP);
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