[发明专利]一种光伏背板及其制备方法

权利要求书

1.一种光伏背板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1，对镀膜基层的表面进行等离子体处理，得到处理后的镀膜基层；

步骤S2，采用真空镀膜将镀膜材料镀至等离子体处理后的镀膜基层的表面，以形成镀膜层；

步骤S3，采用高支化耐水解聚氨酯胶黏剂材质的胶膜将所述镀膜层与支撑层进行粘结，以形成粘结层；

步骤S4，在所述支撑层和镀膜基层的外表面分别制备第一耐候层和第二耐候层，即得所述光伏背板。

2.根据权利要求1所述的一种光伏背板的制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述真空镀膜的方法为磁控溅射、原子层沉积中的至少一种；

所述镀膜材料为氮化硅、氧化铝、氧化硅中的至少一种；

所述镀膜层采用一种镀膜材料单层形成或多层叠加形成，或者采用至少两种镀膜材料往复叠加形成。

3.根据权利要求2所述的一种光伏背板的制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述镀膜层为双层镀膜层；

所述双层镀膜层的制备方法为：先采用磁控溅射将镀膜材料沉积于等离子体处理后的镀膜基层的表面以形成单层镀膜层，再采用原子层沉积将镀膜材料沉积于单层镀膜层的表面，以制得所述双层镀膜层。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的一种光伏背板的制备方法，其特征在于，步骤S3中，所述镀膜层与支撑层之间的粘结强度不低于8N/CM。

5.根据权利要求1-3任意一项所述的一种光伏背板的制备方法，其特征在于，步骤S2之后，还包括对镀膜层进行热处理，使镀膜层松弛，以消除镀膜层表面缺陷的步骤。

6.根据权利要求1所述的一种光伏背板的制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述镀膜层的镀膜设备为卷对卷真空镀膜设备；

所述卷对卷真空镀膜设备包括至少一个真空镀膜腔体，且所述真空镀膜腔体的前方和后方均设有至少一个真空缓冲腔。

7.根据权利要求1所述的一种光伏背板的制备方法，其特征在于，所述粘结层的厚度为2-50μm；所述镀膜层的厚度为10-400nm。

8.根据权利要求1所述的一种光伏背板的制备方法，其特征在于，所述支撑层和镀膜基层为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二酸乙二醇酯、聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺中的至少一种材质的膜层；

所述支撑层的厚度为100-1000μm；所述镀膜基层的厚度为20-1000μm。

9.根据权利要求1所述的一种光伏背板的制备方法，其特征在于，所述第一耐候层和第二耐候层为耐候涂层或耐候薄膜层；

所述耐候涂层为聚酯树脂、丙烯酸树脂、氟碳树脂中的至少一种材质的涂层；

所述耐候薄膜层为聚氟乙烯、乙烯-四氟乙烯共聚物、乙烯-三氟氯乙烯共聚物、改性聚丙烯、改性聚乙烯、改性聚氯乙烯中的至少一种材质的薄膜；

所述第一耐候层的厚度为2-30μm；第二耐候层的厚度为5-50μm。

10.一种光伏背板，其特征在于，其采用权利要求1-9任意一项所述的一种光伏背板的制备方法制得。