[发明专利]一种光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111101676.6 申请日: 2021-09-18
公开(公告)号: CN115838288A 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 杨勇;唐杰;黄政仁;姚秀敏 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C04B35/565 分类号: C04B35/565;C04B35/622;B33Y70/10;C04B35/634;C04B35/626
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 曹芳玲;郑优丽
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 光固化 打印 sic 陶瓷 光敏 浆料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料,其特征在于,所述光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料包括光敏树脂、碳化硅粉和级配二氧化硅粉;所述光敏浆料中碳化硅粉的含量为25~40vol%;所述级配二氧化硅粉由粗粒径二氧化硅粉和细粒径二氧化硅粉按照质量比10:0~0:10级配而成;所述级配二氧化硅粉与光敏树脂的体积比为(0.05~0.2):1。

2.根据权利要求1所述的光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料,其特征在于,粗粒径二氧化硅粉的平均粒径D50为20~40μm,细粒径二氧化硅粉的平均粒径D50为0.5~3μm。

3.根据权利要求1或2所述的光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料,其特征在于,所述粗粒径二氧化硅粉和细粒径二氧化硅粉的质量比为1:(1.5~4)。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料,其特征在于,所述光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料的固化厚度为110~179μm,动态粘度为1.5~4 Pa·s,24h沉降高度6%。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料,其特征在于,所述光敏树脂为1,6-己二醇二丙烯酸酯(HDDA)、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、聚乙二醇二丙烯酸酯(PEGDA)中的一种或多种。

6.根据权利要求5所述的光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料,其特征在于,所述光敏树脂的原料组成包括:1,6-己二醇二丙烯酸酯(HDDA)、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、聚乙二醇二丙烯酸酯(PEGDA)、苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦(BAPO)、聚乙二醇(PEG)。

7.根据权利要求6所述的光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料,其特征在于,所述PEGDA分子量Mn为200~1000;所述HDDA和TMPTA的体积比为(0.1~10): 1;所述PEGDA与HDDA和TMPTA这两者体积总和的体积比为(0.05~0.25):1。

8.根据权利要求6或7所述的光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料,其特征在于,所述BAPO占光敏树脂的质量比为0.2~5wt%。

9.根据权利要求6至8中任一项所述的光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料,其特征在于,所述PEG的分子量Mn为200~1000;所述PEG占光敏树脂的5~30vol%。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料的制备方法,其特征在于,将光敏树脂、碳化硅粉、级配二氧化硅粉搅拌均匀后,于真空环境中脱气处理,得到所述光固化3D打印用SiC陶瓷光敏浆料。

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