[发明专利]显示装置及制造显示装置的方法在审
申请号: | 202111096616.X | 申请日: | 2021-09-16 |
公开(公告)号: | CN114203770A | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
发明(设计)人: | 林泰佑;具本龙;金亨俊;张殷齐;朱章福 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L27/15 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;刘铮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 制造 方法 | ||
1.一种显示装置,包括:
衬底;
像素电路层,在所述衬底上并包括薄膜晶体管;
显示元件层,在所述像素电路层上并且包括电连接到所述薄膜晶体管的显示元件;
滤色器层,在所述显示元件层上,并且包括滤色器和黑色矩阵,所述滤色器与所述显示元件重叠,所述黑色矩阵具有与所述滤色器接触的第一侧和在所述衬底的边缘方向上延伸的第二侧;以及
阻挡层,在所述黑色矩阵和所述衬底之间,
其中,所述阻挡层的末端与所述黑色矩阵的端部没有台阶差。
2.根据权利要求1所述的显示装置,还包括在所述薄膜晶体管的半导体层和所述衬底之间的底部金属层,
其中,所述阻挡层和所述底部金属层包括相同的材料。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述阻挡层和所述薄膜晶体管的栅极包括相同的材料,或所述阻挡层和所述薄膜晶体管的源极或漏极包括相同的材料。
4.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述阻挡层包括第一层和在所述第一层上的第二层。
5.根据权利要求4所述的显示装置,还包括在所述薄膜晶体管的半导体层和所述衬底之间的底部金属层,
其中,所述第一层和所述底部金属层包括相同的材料,以及
所述第二层和所述薄膜晶体管的栅极包括相同的材料,或所述第二层和所述薄膜晶体管的源极或漏极包括相同的材料。
6.根据权利要求4所述的显示装置,其中,
所述第一层和所述薄膜晶体管的栅极包括相同的材料,以及
所述第二层和所述薄膜晶体管的源极或漏极包括相同的材料。
7.根据权利要求4所述的显示装置,其中,所述第一层的上表面接触所述第二层的下表面。
8.根据权利要求4所述的显示装置,其中,
至少一个绝缘层在所述第一层和所述第二层之间,以及
所述至少一个绝缘层具有将所述第一层与所述第二层连接的至少一个接触孔。
9.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述阻挡层沿着所述衬底的至少一个边缘延伸,以及
所述阻挡层的所述末端与所述衬底的所述至少一个边缘没有台阶差。
10.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述阻挡层的热导率大于所述黑色矩阵的热导率。
11.根据权利要求1所述的显示装置,还包括在所述滤色器层上的量子点层。
12.一种制造显示装置的方法,所述方法包括:
在衬底上形成底部金属层、像素电路层和阻挡层,所述像素电路层包括具有与所述底部金属层重叠的半导体层的薄膜晶体管;
在所述像素电路层上形成显示元件层,所述显示元件层包括与所述薄膜晶体管电连接的显示元件;
在所述显示元件层上形成滤色器层,所述滤色器层包括滤色器和黑色矩阵,所述滤色器与所述显示元件重叠,所述黑色矩阵具有与所述滤色器接触的第一侧和在所述衬底的边缘方向上延伸的第二侧;以及
基于所述阻挡层的末端切割所述衬底和所述黑色矩阵,所述末端在所述黑色矩阵的所述第二侧处。
13.根据权利要求12所述的方法,其中,
所述阻挡层与所述底部金属层同时形成,以及
所述阻挡层和所述底部金属层包括相同的材料。
14.根据权利要求12所述的方法,其中,
所述阻挡层与所述薄膜晶体管的栅极、源极或漏极同时形成,以及
所述阻挡层和所述栅极包括相同的材料,或所述阻挡层和所述源极或所述漏极包括相同的材料。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的