[发明专利]一种透过率和反射率测量仪及其测量方法在审

专利信息
申请号: 202111093944.4 申请日: 2021-09-17
公开(公告)号: CN113776786A 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 陈永权;达争尚;郑小霞;张伟刚;李铭 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 董娜
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 透过 反射率 测量仪 及其 测量方法
【权利要求书】:

1.一种透过率和反射率测量仪,其特征在于:包括激光光源(1)、起偏器(2)、分光镜(3)、旋转单元、第一探测器(5)、第二探测器(10)和信号单元;

所述起偏器(2)和分光镜(3)依次设置在激光光源(1)的出射光路上;

所述第一探测器(5)位于分光镜(3)的反射光路上,衰减轮盘(4)位于分光镜(3)和第一探测器(5)之间,其包括可旋转的轮盘(41)和设置在轮盘(41)上的多个衰减片(42),各个衰减片(42)的衰减率不相同,每个衰减片(42)均能够旋转至分光镜(3)的反射光路上;

所述旋转单元包括定距转轴(6)、二维扫描机构(7)和环形滑轨(9);定距转轴(6)位于分光镜(3)的透射光路上,且定距转轴(6)的轴线与分光镜(3)的透射光轴垂直相交;二维扫描机构(7)设置在定距转轴(6)上,且能够绕定距转轴(6)旋转;二维扫描机构(7)用于安装被测光学元件(8),且定距转轴(6)的轴线过被测光学元件(8)的迎光面;环形滑轨(9)与定距转轴(6)同轴并设置在定距转轴(6)的外侧;

所述第二探测器(10)能够在环形滑轨(9)上移动;

所述信号单元包括信号发生器(11)和信号采集处理系统(12),信号发生器(11)用于控制第一探测器(5)和第二探测器(10)同步采集光信号,信号采集处理系统(12)用于采集第一探测器(5)和第二探测器(10)的光信号,获取被测光学元件(8)的透过率或反射率。

2.根据权利要求1所述透过率和反射率测量仪,其特征在于:还包括位于分光镜(3)和定距转轴(6)之间的0°反射附件(14),所述第二探测器(10)移至0°反射附件(14)的后反射光路上,用于实现被测光学元件(8)小角度时的反射率测量。

3.根据权利要求2所述透过率和反射率测量仪,其特征在于:所述0°反射附件(14)为分光棱镜。

4.根据权利要求1至3任一所述透过率和反射率测量仪,其特征在于:还包括设置在激光光源(1)、起偏器(2)、分光镜(3)、旋转单元、第一探测器(5)、第二探测器(10)外侧的仪器罩(13)。

5.采用权利要求1所述透过率和反射率测量仪的测量方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)安装

将被测光学元件(8)安装在二维扫描机构(7)上,且被测光学元件(8)的迎光面位于分光镜(3)的透射光路上,并调整二维扫描机构(7)使被测光学元件(8)迎光面与分光镜(3)之间的角度处于工作角度;

2)调节第二探测器(10)位置

当进行透射率测量时,沿环形滑轨(9)滑动第二探测器(10),使其接收经被测光学元件(8)后的透射光;

当进行反射率测量时,沿环形滑轨(9)滑动第二探测器(10),使其接收经被测光学元件(8)后的反射光;

3)测量

信号发生器(11)产生同步信号控制第一探测器(5)和第二探测器(10)同步采集光信号,信号采集处理系统(12)采集第一探测器(5)和第二探测器(10)的光信号,处理后获取被测光学元件(8)的透过率或反射率。

6.根据权利要求5所述的测量方法,其特征在于:步骤2)中,当进行反射率测量,且反射角≤5°时,在分光镜(3)和定距转轴(6)之间插入一个0°反射附件(14),并将第二探测器(10)移至0°反射附件(14)的后反射光路上;

分光镜(3)透射的光束经0°反射附件(14)透射后入射至被测光学元件(8)的迎光面,被测光学元件(8)反射回的光束经0°反射附件(14)反射后,被第二探测器(10)接收。

7.根据权利要求6所述的测量方法,其特征在于:

步骤1)中,若被测光学元件(8)的口径大于测试光束口径时,将被测光学元件(8)分为多个子孔径,通过二维扫描机构(7)分别使多个子孔径处于测试光束的透射光路上;

通过步骤2)和步骤3)的方法逐个对子孔径测量,获得各个子孔径的透过率或反射率,对所有子孔径的透过率、反射率分别求平均值,获得被测光学元件(8)的透过率或反射率。

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