[发明专利]一种等离子刻蚀腔的清洗方法及应用在审
| 申请号： | 202111092346.5 | 申请日： | 2021-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN115815223A | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | 梁枫;杨宇新;李雪冬;刘小波;李佳鹤;彭泰彦;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;H01J37/305;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 付丽 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 刻蚀 清洗 方法 应用 | ||
1.一种等离子刻蚀腔的清洗方法，包括以下步骤：
A)将清洗片置于完成样品加工后的等离子刻蚀腔内，通入惰性气体，进行电容耦合等离子体清洗；
B)然后通入化学清洗气体，进行电感耦合等离子体清洗；
所述化学清洗气体包括CH2F2、BCl3、CF4、NF3、SF6、Cl2、O2中的一种或几种。
2.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述惰性气体包括He、Kr、Ne、Ar和Xe中的一种或几种。
3.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述电容耦合等离子体清洗时还通入1～200sccm的O2。
4.根据权利要求3所述的清洗方法，其特征在于，所述电容耦合等离子体清洗的射频功率为500～2000W，腔体压力为10～50mT，总的气体流量为100～500sccm。
5.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述电感耦合等离子体清洗时还通入50～300sccm的惰性气体。
6.根据权利要求5所述的清洗方法，其特征在于，所述电感耦合等离子体清洗的射频功率为500～2000W，腔体压力为10～50mT，总的气体流量为100～500sccm。
7.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述等离子刻蚀腔内设置有与窗口平行的电极，所述窗口外部设置有法拉第屏蔽装置和射频线圈。
8.如权利要求1所述的清洗方法在清洗等离子刻蚀腔内金属和SiO混合沾污时的应用。
9.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，所述金属和SiO混合沾污位于窗口和腔壁处。
10.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，所述金属为Ru、Ta、TiN、Cu、Ag、Al、Pt和Mg中的一种或几种。
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