[发明专利]透明样品的亚表面缺陷检测方法在审
| 申请号: | 202111089806.9 | 申请日: | 2021-09-16 |
| 公开(公告)号: | CN113720861A | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
| 发明(设计)人: | 刘立拓;宋晓娇;余晓娅;王盛阳;姜行健;周维虎 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号: | G01N21/958 | 分类号: | G01N21/958;G01N21/88;G01N21/47 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王文思 |
| 地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 透明 样品 表面 缺陷 检测 方法 | ||
1.一种透明样品的亚表面缺陷检测方法,包括:
利用激光共聚焦方法确定所述透明样品亚表面缺陷大致位置;
对所述亚表面缺陷的散射光形成的像进行过焦扫描,以得到散射光光场的纵向分布信息;
根据所述纵向分布信息及所述大致位置确定所述亚表面缺陷的实际位置、尺寸及形态。
2.根据权利要求1所述的亚表面缺陷检测方法,其中,所述利用激光共聚焦方法确定所述透明样品亚表面缺陷大致位置包括:
确定所述透明样品的最佳物面;
对所述最佳物面形成的散射光进行光电探测,获得最佳物面的成像信息;
根据所述成像信息确定所述透明样品亚表面缺陷的大致位置。
3.根据权利要求1所述的亚表面缺陷检测方法,其中,所述对所述亚表面缺陷的散射光形成的像进行过焦扫描,以得到散射光光场的纵向分布信息包括:
在预定范围内对所述像进行过焦扫描,获得光场沿纵向分布的多维数据图像;
根据所述多维数据图像构建光场分布数据立方体;
根据所述光场分布数据立方体提取所述亚表面缺陷扰动散射纵向分布模式。
4.根据权利要求3所述的亚表面缺陷检测方法,其中,采用电荷耦合器件捕获所述多维数据图像。
5.一种透明样品的亚表面缺陷检测装置,包括:
激光共聚焦模块,用于利用激光共聚焦方法确定所述透明样品亚表面缺陷大致位置;
过焦扫描模块,用于对所述亚表面缺陷的散射光形成的像进行过焦扫描,以得到散射光光场的纵向分布信息;
处理模块,用于根据所述纵向分布信息及所述大致位置确定所述亚表面缺陷的实际位置、尺寸及形态。
6.根据权利要求5所述的亚表面缺陷检测装置,其中,所述激光共聚焦模块包括:
光源(1),用于发射激光;
第一分光镜(2),用于改变激光的传播方向并使得激光能够透射所述透明样品;
第一聚焦镜(3),用于将激光聚焦到焦平面后入射至所述透明样品,以确定所述透明样品的最佳物面;
第二聚焦镜(4),用于对所述最佳物面形成的散射光进行聚焦;
小孔光阑(5),用于对聚焦后的散射光形成的光斑进行调节,以便于探测;
光电探测器(6),用于对所述散射光进行探测,以得到所述透明样品亚表面缺陷大致位置。
7.根据权利要求5所述的透明样品的亚表面缺陷检测装置,其中,所述过焦扫描模块包括:
第二分光镜(7),用于改变部分散射光的传播方向;
第三聚焦镜(8),用于对部分散射光,以形成所述亚表面缺陷的像;
过焦扫描单元(9),用于在预定范围内对所述像进行过焦扫描,以获取散射光光场的纵向分布信息。
8.根据权利要求7所述的透明样品的亚表面缺陷检测装置,其中,所述过焦扫描单元(9)获取散射光光场的纵向分布信息包括:
在预定范围内对所述像进行过焦扫描,获得光场沿纵向分布的多维数据图像;
根据所述多维数据图像构建光场分布数据立方体;
根据所述光场分布数据立方体提取所述亚表面缺陷扰动散射纵向分布模式。
9.根据权利要求8所述的透明样品的亚表面缺陷检测装置,所述亚表面缺陷检测装置还包括:
电荷耦合器件(10),用于捕获所述多维数据图像。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111089806.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:造形物的制造方法
- 下一篇:一种阿霉素偶联壳寡糖的纳米粒子





