[发明专利]抗生素的去除方法在审
| 申请号： | 202111089515.X | 申请日： | 2021-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN113716673A | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 李华;张雨晗;张倩;李炀 | 申请（专利权）人： | 桂林电子科技大学 |
| 主分类号： | C02F1/72 | 分类号： | C02F1/72;C02F1/30;C02F1/32;C02F1/78;C02F101/30 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 李杰 |
| 地址： | 541004 广西*** | 国省代码： | 广西;45 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抗生素 去除 方法 | ||
1.一种抗生素的去除方法，其特征在于，包括以下步骤：
在待处理的废水中加入黄铁矿粉末，使得到的混合废水中的黄铁矿粉末的浓度大于等于0.5g/L，所述待处理的废水中包含抗生素；
将所述混合废水进行等离子体射流处理。
2.根据权利要求1所述的抗生素的去除方法，其特征在于，0.5g/L≤所述混合废水中的黄铁矿粉末的浓度≤5g/L。
3.根据权利要求1所述的抗生素的去除方法，其特征在于，所述黄铁矿粉末的粒径为100目以内。
4.根据权利要求1所述的抗生素的去除方法，其特征在于，将所述混合废水进行等离子体射流处理的步骤包括：
在温度为25±2℃、等离子体射流的电流值为30～130μA的条件下，将所述混合废水进行等离子体射流处理1～30min。
5.根据权利要求4所述的抗生素的去除方法，其特征在于，在温度为25±2℃、等离子体射流的电流值为110μA的条件下，将所述混合废水进行等离子体射流处理10～30min。
6.根据权利要求1所述的抗生素的去除方法，其特征在于，还包括在加入黄铁矿粉末前将所述待处理的废水的pH值调节至3～9，或将所述混合废水的pH值调节至3～9。
7.根据权利要求6所述的抗生素的去除方法，其特征在于，还包括在加入黄铁矿粉末前将所述待处理的废水的pH值调节至3～6，或将所述混合废水的pH值调节至3～6。
8.根据权利要求1所述的抗生素的去除方法，其特征在于，所述待处理的废水的抗生素与所述黄铁矿的浓度比为1:50～500。
9.根据权利要求8所述的抗生素的去除方法，其特征在于，所述待处理的废水的抗生素的浓度为8～12mg/L。
10.根据权利要求1～9任一项所述的抗生素的去除方法，其特征在于，所述抗生素为泰乐菌素。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桂林电子科技大学，未经桂林电子科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111089515.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
