[发明专利]一种大位阻氮杂环卡宾钯配合物及其制备方法与应用和基于其的索尼吉布的合成方法

权利要求书

1.一种大位阻氮杂环卡宾钯配合物，其特征在于，该配合物是具有式(A)所示化学结构式的化合物：

其中

R¹、R^1’、R²、R^2’相同或不同的分别为氢、取代或未取代的C6-20的芳基、取代或未取代的C4-20的杂环基、取代或未取代的C1-20的烃氧基、取代或未取代的C1-20的烷基、取代或未取代的C3-20的环烷基、卤素、-CF₃、-NO₂、取代氨基中的至少一种；

R³为氢、取代或未取代的C6-20的芳基、取代或未取代的C4-20的杂环基、取代或未取代的C1-20的烷基、取代或未取代的C3-20的环烷基中的任意一种；

X为-Cl、-Br、-I、CH₃COO-、CF₃COO-、-BF₄、-PF₆、-SbF₆、-OTf中的一种；

取代指基团中的一个或一个以上氢原子被C6-20的芳基、C4-20的杂环基、C1-20的烃氧基、C1-20的烷基、C3-20的环烷基、-CF₃、-NO₂、卤素基团取代。

2.一种大位阻氮杂环卡宾钯配合物，其特征在于，该配合物是权利要求1所述式(A)化学结构式的化合物的对映体或消旋体，对映体具有式(B)所示化学结构式，消旋体具有式(C)所示化学结构式：

其中

R¹、R^1’、R²、R^2’相同或不同的分别为氢、取代或未取代的C6-20的芳基、取代或未取代的C4-20的杂环基、取代或未取代的C1-20的烃氧基、取代或未取代的C1-20的烷基、取代或未取代的C3-20的环烷基、卤素、-CF₃、-NO₂、取代氨基中的至少一种；

R³为氢、取代或未取代的C6-20的芳基、取代或未取代的C4-20的杂环基、取代或未取代的C1-20的烷基、取代或未取代的C3-20的环烷基中的任意一种；

X为-Cl、-Br、-I、CH₃COO-、CF₃COO-、-BF₄、-PF₆、-SbF₆、-OTf中的一种；

取代指基团中的一个或一个以上氢原子被C6-20的芳基、C4-20的杂环基、C1-20的烃氧基、C1-20的烷基、C3-20的环烷基、-CF₃、-NO₂、卤素基团取代。

3.一种权利要求1或2所述的大位阻氮杂环卡宾钯配合物的制备方法，其特征在于，以苯基取代的大位阻咪唑盐为骨架，与官能团化的钯二聚体[Pd-(烯丙基-R³)(u-X)]₂进行配位得到。

4.根据权利要求3所述的大位阻氮杂环卡宾钯配合物的制备方法，其特征在于所述的大位阻咪唑盐为大位阻咪唑X代盐，其结构式如下：

其中，X为Cl、Br、I、CH₃COO、CF₃COO、BF₄、PF₆、SbF₆、OTf中的一种。

5.根据权利要求3所述的大位阻氮杂环卡宾钯配合物的制备方法，其特征在于，所述的大位阻咪唑盐为大位阻咪唑X代盐，以取代或未取代的二苯基乙二胺为起始原料，与取代或未取代的2,6-二异丙基溴苯经C-N偶联反应，再与无机X代盐反应得到。

6.根据权利要求5所述的大位阻氮杂环卡宾钯配合物的制备方法，其特征在于：所述C-N偶联反应的反应温度为25-130℃，反应时间为1-96h；所述与无机X代盐反应的反应温度为25-120℃，反应时间为1-48h。