[发明专利]发光装置在审
申请号: | 202111081600.1 | 申请日: | 2020-02-07 |
公开(公告)号: | CN113782656A | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 陈嘉源;蔡宗翰;李冠锋;吴湲琳 | 申请(专利权)人: | 群创光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/44 | 分类号: | H01L33/44;H01L33/58;H01L51/52;H01L25/075;H01L25/04;H01L25/16;H01L33/00;H01L33/38;H01L33/62 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 装置 | ||
本发明提供了一种发光装置,其包括基板、发光单元以及光调整层。发光单元设置在基板上,且发光单元包括光输出表面。光调整层设置在发光单元上,且光调整层具有不规则边缘。
本申请是申请日为2020年02月07日、申请号为202010082769.8、发明名称为“发光装置以及制造发光装置的方法”的发明专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种发光装置,特别是涉及一种具有光调整层以使发射光均匀的发光装置。
背景技术
随着电子装置的演进与发展,电子装置在现今社会中已成为不可或缺的物品。举例而言,作为一种电子装置的发光装置已被用于任何适合的具有显示功能的电子产品中,例如电视、屏幕、笔记本电脑、智能手机、手表以及车用显示器等,以提供更方便的信息传递与显示。
一般而言,电子装置可具有发光单元,例如发光二极管(light-emitting diode,LED),以发射光线。各个发光单元的边缘区域可能会因为如蚀刻等制造过程而受损,因此导致发射光过度集中。另外,当发光单元的尺寸缩小以提高分辨率或缩小电子装置的尺寸时,损伤区域并不会对应缩小。因此,发光单元会具有高比例的损伤区域,使得光线集中的现象会更加严重,因而导致光线不均匀及/或光输出量低。
发明内容
在一实施例中,本发明提供了一种发光装置,其包括基板、发光单元以及光调整层。发光单元设置在基板上,且发光单元包括光输出表面。光调整层设置在发光单元上,且光调整层具有不规则边缘。
在阅读了下文绘示有各种附图的实施例的详细描述之后,对于所属领域的技术人员来说,应可清楚明了本发明的目的。
附图说明
图1所示为本发明第一实施例的发光装置的剖视示意图。
图2A所示为本发明第一实施例的发光单元与光调整层的俯视示意图。
图2B与图2C所示分别为对于图1的发光单元与光调整层的变化实施例的俯视示意图。
图3至图6所示分别为本发明第一实施例的变化实施例的发光单元与光调整层的俯视示意图。
图7至图12所示分别为本发明第一实施例的发光装置的制造方法中的过程状态的剖视示意图。
图13所示为本发明第二实施例的发光装置的剖视示意图。
图14所示为本发明第二实施例的发光单元与光调整层的俯视示意图。
图15所示为本发明第三实施例的发光装置的剖视示意图。
图16所示为本发明第三实施例的变化实施例的发光装置的俯视示意图。
图17所示为本发明第四实施例的发光装置的剖视示意图。
图18所示为本发明第四实施例的发光单元与光调整层的俯视示意图。
图19所示为本发明第五实施例的发光装置的剖视示意图。
图20A所示为本发明第五实施例的发光单元与光调整层的俯视示意图。
图20B所示为本发明第五实施例的变化实施例的发光单元与光调整层的俯视示意图。
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