[发明专利]一种PP膜用消光母料及其制备方法在审
| 申请号： | 202111075456.0 | 申请日： | 2021-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN113698704A | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 马剑江;马俊生;张桂云;邓晟林;谢清龙 | 申请（专利权）人： | 广东普赛夫聚合物有限公司 |
| 主分类号： | C08L23/12 | 分类号： | C08L23/12;C08L23/08;C08L23/14;C08K3/36;C08K9/06;C08K9/04;C08K3/34;C08J3/22 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 曹萌 |
| 地址： | 528000 广东省佛山市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 pp 膜用消光母 料及 制备 方法 | ||
1.一种PP膜用消光母料，其特征在于：按照重量份数计，所述PP膜用消光母料包括29-70重量份的聚丙烯、15-65重量份的线性低密度聚乙烯、15-25重量份的二氧化硅系填充材料、0.1-1.5重量份的加工助剂和0.5-2.5重量份的表面活性剂。
2.根据权利要求1所述的一种PP膜用消光母料，其特征在于：所述聚丙烯为均聚聚丙烯和共聚聚丙烯中的至少一种，所述聚丙烯的熔体流动速率为3.0-12.5g/10min。
3.根据权利要求2所述的一种PP膜用消光母料，其特征在于：所述共聚聚丙烯为二元共聚聚丙烯和三元共聚聚丙烯中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的一种PP膜用消光母料，其特征在于：所述线性低密度聚乙烯的熔体流动速率为0.2-5.0g/10min。
5.根据权利要求1所述的一种PP膜用消光母料，其特征在于：所述二氧化硅系填充材料为二氧化硅、滑石粉、硅灰石、高岭土和云母粉中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的一种PP膜用消光母料，其特征在于：所述二氧化硅系填充材料的目数为800-1000目。
7.根据权利要求1所述的一种PP膜用消光母料，其特征在于：所述加工助剂为酯类加工助剂和硬质酸盐类加工助剂中的至少一种。
8.根据权利要求1所述的一种PP膜用消光母料，其特征在于：所述表面活性剂为硬脂酸类表面活性剂、硅烷偶联剂类表面活性剂、钛酸酯偶联剂类表面活性剂和铝酸酯偶联剂类表面活性剂中的至少一种。
9.一种PP膜用消光母料的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
步骤一，将二氧化硅系填充材料置于表面活性剂中于100-110℃，500-800rmp转速混合15-30min得到混合均匀的物料；
步骤二，将聚丙烯、线性低密度聚乙烯、加工助剂和步骤一中处理好的二氧化硅系填充材料于25-35℃，50-100rmp转转速下混合5-10min得到混合物料；
步骤三，将步骤二中的混合物料于180-220℃在在双螺杆挤出机中挤出造粒，得到所述的PP膜用消光母料。
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