[发明专利]晶圆制备的控制方法及其装置有效

专利信息
申请号: 202111071887.X 申请日: 2021-09-14
公开(公告)号: CN113762797B 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 刘德桂;李永;范华亮;郭慧兰 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: G06Q10/0631 分类号: G06Q10/0631;G06Q50/04
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 孙静;臧建明
地址: 230011 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 制备 控制 方法 及其 装置
【说明书】:

本申请提供一种晶圆制备的控制方法及其装置。该方法包括响应第一在制品的制备派工指令,基于晶圆制备所使用的实时派工系统从晶圆制备信息库中获取第一在制品在当前站点的制备流程对应的第一有效设备数量,并获取第一有效设备最大负载量,晶圆制备信息库中包括多个在制品在当前站点的制备流程对应的有效设备数量和有效设备最大负载量;当第一有效设备数量大于或等于预设有效设备数量,且第一有效设备最大负载量大于或等于预设最大负载量时,基于实时派工系统下发第一在制品的制备指令。本申请的方法可以有效得避免因为制程等待时间过长导致的晶圆、集成电路的成品率低、生产效率低、晶圆制造机台利用率低等问题。

技术领域

本申请涉及半导体制造技术,尤其涉及一种晶圆制备的控制方法及其装置。

背景技术

在集成电路的整个制备工艺流程中,许多晶圆制程的许多站点都有“限制等待时间(Queue Time,QT)”的要求,即晶圆从上一个制程出来之后,必须在限制等待时间内进入下一个制程,否则,就会超出限制等待时间(Over QT),造成产品的品质问题甚至报废。要控制晶圆在限制等待时间内进入下一个制程,就需要确定出该晶圆制备中所涉及的所有制程对应的设备数量是否满足要求,以及所有制程对应的设备中在制品数量是否超出设备的最大负载量。当设备数量满足要求,且每个设备的最大负载量满足要求,则晶圆在制备过程中就可以按照预设的流程完成制备,不会发生超出限制等待时间的情况。

现有技术中一般是由集成制造系统(Manufacturing Execution System,MES)采集集成电路制备中所使用的所有设备的状况、晶圆所属制程的状况等,再由工作人员根据MES采集到的信息进行晶圆制备的人工调控。具体的,在人工调控时,工作人员基于计算机设备上的实时派工系统(集成电路制备中的晶圆生产派工系统)对各个晶圆的制备进行卡控或派工,以控制集成电路所使用的各个晶圆在经历各个制程时不会超过限制等待时间。但是集成电路生产中所使用的晶圆数量很多,人工控制的方法过份依赖于工作人员的经验,因此无法有效、准确得避免晶圆等待时间超过限制等待时间的情况发生。

所以现有技术目前无法有效得避免因为制程等待时间过长导致的晶圆、集成电路的成品率低、生产效率低、晶圆制造机台利用率低等问题。

发明内容

本申请提供一种晶圆制备的控制方法及其装置,用以解决现有技术目前无法有效得避免因为制程等待时间过长导致的晶圆、集成电路的成品率低、生产效率低、晶圆制造机台利用率低等问题。

一方面,本申请提供一种晶圆制备的控制方法,包括:

响应第一在制品的制备派工指令,基于晶圆制备所使用的实时派工系统从所述晶圆制备信息库中获取所述第一在制品在当前站点的制备流程对应的第一有效设备数量,并获取所述第一有效设备最大负载量,所述晶圆制备信息库中包括多个在制品在当前站点的制备流程对应的有效设备数量和有效设备最大负载量,同一在制品在不同站点的制备流程不同,不同在制品所处的当前站点不同;

当所述第一有效设备数量大于或等于预设有效设备数量,且所述第一有效设备最大负载量大于或等于预设最大负载量时,基于所述实时派工系统下发所述第一在制品的制备指令,使得所述第一有效设备按照所述第一在制品制备流程完成所述第一在制品的制备。

其中一个实施例中,还包括:

基于晶圆制备所使用的报表开发系统从信息收集系统中获取待筛选设备的信息,所述信息收集系统包括集成制造系统MES、基本记录系统BR和产能计算系统ICAPA;所述待筛选设备为处于未满载状态且处于制程状态的设备,所述待筛选设备的信息至少包括站点信息和制备流程类型;

针对所述多个在制品中的任意一个在制品,获取所述任意一个在制品在当前站点的制备流程对应的预设有效设备信息,所述预设有效设备信息至少包括在制品从当前站点至结束站点的所有站点信息和制备流程类型;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司,未经长鑫存储技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111071887.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top