[发明专利]光学系统的偏心调整方法、组装方法及其相关设备在审
申请号: | 202111063084.X | 申请日: | 2021-09-10 |
公开(公告)号: | CN113852806A | 公开(公告)日: | 2021-12-28 |
发明(设计)人: | 黄玉 | 申请(专利权)人: | 江西晶浩光学有限公司 |
主分类号: | H04N17/00 | 分类号: | H04N17/00 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 纪婷婧 |
地址: | 330096 江西省南昌市南*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学系统 偏心 调整 方法 组装 及其 相关 设备 | ||
1.一种光学系统的偏心调整方法,其特征在于,所述方法包括:
采集成像面上的第i图形和第i+1图形;其中,i≥1,i为自然数,所述第i图形为特征光线从所述光学系统的i个光学元件透射后在成像面上所形成的图形,所述第i+1图形为特征光线从所述光学系统的i+1个光学元件透射后在成像面上所形成的图形;
分别获取所述第i图形和所述第i+1图形中特征点的位置信息;
根据所述第i图形中特征点的位置信息和所述第i+1图形中特征点的位置信息,获取第i+1图形的偏移量;其中,所述第i+1图形的偏移量用于表征第i+1图形中特征点与第i图形中特征点之间的偏移值;
根据所述第i+1图形的偏移量调整光学系统的第i+1光学元件,以使所述第i+1图形的偏移量保持在预设范围内。
2.根据权利要求1所述的光学系统的偏心调整方法,其特征在于,所述方法应用于偏心调整系统,所述偏心调整系统包括具有至少两个通光孔的特征图案板,所述第i图形包括至少两个,至少两个所述第i图形分别与至少两个所述通光孔一一对应设置,所述第i+1图形包括至少两个,至少两个所述第i+1图形分别与至少两个所述通光孔一一对应设置;
根据所述第i图形中特征点的位置信息和所述第i+1图形中特征点的位置信息获取第i+1图形的偏移量的步骤,包括:
根据与各所述通光孔对应的第i图形和第i+1图形中特征点的位置信息,获取与各所述通光孔对应的第i+1图形的偏移量;
根据所述第i+1图形的偏移量调整第i+1光学元件,以使所述第i+1图形的偏移量保持在预设范围内的步骤,包括:
根据至少两个所述第i+1图形的偏移量调整所述第i+1光学元件,以使各所述第i+1图形的偏移量分别保持在预设范围内。
3.根据权利要求2所述的光学系统的偏心调整方法,其特征在于,还包括:
将入射光线投射至所述特征图案板以生成至少两个特征光线;其中,所述特征图案板还包括遮光部,所述入射光线投射至所述特征图案板时一部分被所述遮光部遮挡,另一部分从各所述通光孔向外透射以生成所述特征光线,每一所述通光孔生成一束所述特征光线;
将多个所述特征光线分别从光学系统中至少一个光学元件透射后并透射至成像面以形成多个待处理图形;其中,各所述待处理图形包括第i图形和第i+1图形中的至少一种。
4.根据权利要求1-3任一项所述的光学系统的偏心调整方法,其特征在于,根据所述第i+1图形的偏移量调整第i+1光学元件,以使所述第i+1图形的偏移量保持在预设范围内的步骤,包括:
根据所述第i+1图形的偏移量多次调整所述第i+1光学元件的位置;
针对每一次对所述第i+1光学元件的位置调整,对应获取一个第i+1光学元件的调整偏移量;其中,所述调整偏移量为每一次位置调整后的第i+1图形中特征点与第i图形中特征点之间的偏移值;
根据具有最小所述调整偏移量的位置确定所述第i+1光学元件的目标位置。
5.根据权利要求1-3任一项所述的光学系统的偏心调整方法,其特征在于,所述偏心调整方法应用于偏心调整系统;所述方法,还包括:
在所述光学系统只装入第一光学元件时,将所述第一光学元件的光轴中心调整至与预设的基准中心对准;其中,所述基准中心为预设的光学系统的光轴中心。
6.根据权利要求1-3任一项所述的光学系统的偏心调整方法,其特征在于,分别获取所述第i图形和所述第i+1图形中特征点的位置信息的步骤,包括:
根据预设的图像预处理规则,对待处理图形进行图像预处理以获取待测图形;其中,所述待处理图形包括第i图形和第i+1图形中的至少一种,所述待测图形包括对第i图形预处理后生成的第i待测图形和对第i+1图形预处理后生成的第i+1待测图形中的至少一种;
根据预设的坐标计算规则对所述待测图形进行计算,根据计算结果获取所述待测图形中特征点的位置信息;其中,所述待测图形中特征点的位置信息包括第i图形和第i+1图形中特征点的位置信息的至少一种。
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