[发明专利]一种多孔钽膜的制备方法

权利要求书

1.一种多孔钽膜的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

步骤一、将钽粉加入到聚乙烯醇缩丁醛溶液中，得到钽粉浆料；所述钽粉浆料的固含量为45％～65％；

步骤二、将钽基体进行打磨，然后采用去离子水进行清洗，得到清洗后钽基体；

步骤三、将步骤二中得到的清洗后钽基体进行化学抛光处理，得到抛光后钽基体；

步骤四、将步骤一中得到的钽粉浆料喷涂到步骤三中得到的抛光后钽基体表面，得到钽膜生坯材料；

步骤五、将步骤四中得到的钽膜生坯材料进行真空烧结，在钽基体表面得到多孔钽膜；所述烧结的过程为：在高温真空炉中，真空度为3.0×10^-3Pa～9.0×10^-2Pa的条件下，加热至1500～1700℃后保温1h～2h。

2.根据权利要求1所述的一种多孔钽膜的制备方法，其特征在于，步骤一中所述钽粉为球形钽粉，所述球形钽粉的D90不大于5.6μm。

3.根据权利要求1所述的一种多孔钽膜的制备方法，其特征在于，步骤一中所述聚乙烯醇缩丁醛溶液的溶剂为无水乙醇，聚乙烯醇缩丁醛溶液中聚乙烯醇缩丁醛的质量含量为1％～3％。

4.根据权利要求1所述的一种多孔钽膜的制备方法，其特征在于，步骤二中所述打磨处理依次使用280#，600#，1000#砂纸进行打磨，所述钽基体为钽片。

5.根据权利要求1所述的一种多孔钽膜的制备方法，其特征在于，步骤三中所述化学抛光处理的过程为：将钽基体浸泡在含有质量分数为1％～3％硫酸铵的氢氟酸溶液中浸泡20min～40min，然后取出后立即用去离子水冲洗干净，再利用氮气吹干，得到抛光后钽基体；所述氢氟酸溶液为含质量分数40％氢氟酸的水溶液。

6.根据权利要求1所述的一种多孔钽膜的制备方法，其特征在于，步骤四中所述喷涂中喷涂的压力为0.45MPa～0.60MPa。