[发明专利]通过离子交换增强的荧光硅酸锂玻璃陶瓷及其制备方法

权利要求书

1.一种荧光硅酸锂玻璃陶瓷的制备方法，其包括：

(1)配制基础玻璃料，其中，所述基础玻璃料包含以下质量的组分：

(2)将所述基础玻璃料通过熔制、水淬成玻璃熔块；

(3)将所述玻璃熔块烘干研磨成粒径1-50μm的基础玻璃粉体，与粒径0-10μm的着色剂粉体混合，倒入磨具压制成型，经等静压或直接干压后进行热处理得到成型坯体；

(4)将得到的成型坯体进行真空气氛烧结；

(5)将坯体通过CAD/CAM或热压铸工艺加工得到玻璃陶瓷修复体；

(6)将所述玻璃陶瓷修复体浸没在熔盐中，浸没时间为0.2-8h，得到离子交换增强的荧光玻璃陶瓷修复体，其中，所述熔盐包含钾盐以及荧光剂；

其中，所述钾盐为KNO₃、K₂CO₃和K₂SiCO₃，基于所述熔盐的总重量，所述KNO₃含量为96-99.5wt％，所述K₂CO₃含量为0-2wt％，所述K₂SiCO₃含量为0-3wt％，

所述荧光剂选自Eu、Dy、Tm、Er、Ho、Yb、Nd、Sm、Gd的硝酸水合物中的至少一种，基于所述钾盐的总重量，所述荧光剂的含量为1-2wt％。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述KNO₃含量为97.5-99.5wt％，所述K₂CO₃含量为0.25-1wt％，所述K₂SiCO₃含量为0.25-2wt％。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述着色剂包括Pr₂O₃、Cr₂O₃、Co₂O₃、Nd₂O₃、V₂O₅、NiO、MnO、Er₂O₃、锆铁红、锆镨黄、铬铁红、铁铬锌棕中的至少一种，基于所述基础玻璃料总重量，所述着色剂含量为0-5wt％。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述基础玻璃料中包含以下质量的组分：

5.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述基础玻璃料的粉体粒径为2-30μm，所述着色剂粉体粒径为0.5-5μm。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述熔盐的温度为250-660℃。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其中，所述熔盐的温度为420-500℃。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述熔制过程的温度为1250-1650℃，时间为30-180min。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其中，所述熔制过程的温度为1450-1550℃，时间为40-120min。

10.根据权利要求1所述的制备方法，其中，在所述真空气氛烧结过程中，真空度为300-5000Pa，烧结温度为400-950℃，时间为30-240min。

11.根据权利要求10所述的制备方法，其中，真空度为1000-3500Pa。

12.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述CAD/CAM加工过程为：将所述坯体进行铣削加工，再将加工后的坯体在烤瓷炉中进行晶化烧结，得到所述玻璃陶瓷修复体，其中，所述晶化烧结温度为850-920℃，真空度为1000-3500Pa，时间为40-120min。