[发明专利]一种图案化导电膜的制备方法

说明书

本发明涉及导电膜技术领域，尤其涉及一种图案化导电膜的制备方法，一种图案化导电膜的制备方法，将金属纳米颗粒按照0.01‑50mg/ml浓度分散到水、醇或者二者混合液中，震荡摇晃2‑5分钟，得到金属纳米颗粒的均匀分散液；将上述分散液印刷于基材之上，然后干燥，干燥温度为90‑110℃，时间为1‑5分钟；将具有特定图案的掩版覆于上述印有纳米颗粒的表面，通过红外光照射，光能量密度0.1‑2j/cm2，照射时间为1‑5分钟.固化后将掩版去除，水洗干燥，水洗时间0.5‑3分钟，干燥温度90‑110℃，干燥时间1‑5分钟，得到具有图案化纳米颗粒的基底；本发明极大的方便了导电膜在后续产品中的应用，提高镀层附着力，减少环境污染，减少后端对设备的依赖，极大地降低成本，而且减少对原材料的浪费。

技术领域

本发明涉及导电膜技术领域，尤其涉及一种图案化导电膜的制备方法。

背景技术

光电产品都需要光的穿透与电的传导，因此透明导电膜是光电产品的基础，平面显示器、触控面板、太阳能电池、电子纸、OLED照明等光电产品都须要用到透明导电膜。

现行导电膜多种多样，既有传统的ITO(氧化铟锡)导电膜，也有新兴的银纳米线导电膜、金属网格导电膜以及有机导电膜等。而将导电膜应用到后续产品中，则大多需要经过切割、老化、印线、烘烤、蚀刻、水洗等一系列复杂工艺，使导电膜具备特定图案。不仅工艺复杂，对设备要求高，而且极大的浪费了原材料。

传统的化学镀是指利用合适的还原剂将金属离子还原沉积到绝缘体表面，形成致密金属膜层。为使绝缘体表面容易镀覆，提高及附着力，通常需要进过粗化、敏化、活化以及镀铜等工艺。所用腐蚀液对环境危害大，而且镀层附着力差强人意。

为解决上述问题，本发明提供了一种图案化导电膜的制备方法。

发明内容

(一)要解决的技术问题

解决传统的化学镀是指利用合适的还原剂将金属离子还原沉积到绝缘体表面，形成致密金属膜层，为使绝缘体表面容易镀覆，提高及附着力，通常需要进过粗化、敏化、活化以及镀铜等工艺，所用腐蚀液对环境危害大，而且镀层附着力差强人意，以及导电膜应用到后续产品中时，需要经过切割、老化、印线、烘烤、蚀刻、水洗等一系列复杂工艺，使导电膜具备特定图案，不仅工艺复杂，对设备要求高，而且极大的浪费了原材料的问题，提供了一种图案化导电膜的制备方法。

(二)技术方案

一种图案化导电膜的制备方法，包括以下步骤：

步骤一：将金属纳米颗粒按照0.01-50mg/ml浓度分散到水、醇或者二者混合液中，震荡摇晃2-5分钟，得到金属纳米颗粒的均匀分散液；

步骤二：将上述分散液印刷于基材之上，然后干燥，干燥温度为90-110℃，时间为1-5分钟；

步骤三：将具有特定图案的掩版覆于上述印有纳米颗粒的表面，通过红外光照射，光能量密度0.1-2j/cm2，照射时间为1-5分钟.固化后将掩版去除，水洗干燥，水洗时间0.5-3分钟，干燥温度90-110℃，干燥时间1-5分钟，得到具有图案化纳米颗粒的基底；

步骤四：将上述固化有金属纳米颗粒的基底经过化学镀、干燥，镀液温度为40-60℃，镀液时间为2-30分钟，干燥温度为80-150℃，干燥时间为1-5分钟，得到具有特定图案的导电膜。

作为优选的技术方案，金属纳米颗粒包括金、银、铜。

作为优选的技术方案，印刷方式包括打印、旋涂、丝棒、狭缝涂布。

作为优选的技术方案，基材包括PET、PC、PP、玻璃。

(三)有益效果

本发明的有益效果在于：