[发明专利]适用于医院环境的缓释型杀菌剂及其制备方法

权利要求书

1.一种适用于医院环境的缓释型杀菌剂，其特征在于其为安普霉素、十二烷基苯磺酸根和苯磺酸根插层水滑石，其化学式如下：

[(M²⁺)_1-x(M³⁺)_x(OH)₂]^x+ (DBS^-)_y（BS^-)_x-y(APR)_z•mH₂O

其中，x=0.25-0.34，y=0.05-0.28，z=0.05-0.14，m＝3-6，m为层间结晶水分子的数量，M²⁺为二价金属离子，M³⁺为三价金属离子，DBS^-为十二烷基苯磺酸根，BS^-为苯磺酸根，APR为安普霉素；

适用于医院环境的缓释型杀菌剂的制备方法，包括如下步骤：

（1）制备水滑石前体；

（2）制备十二烷基苯磺酸根和苯磺酸根共插层水滑石：

将十二烷基苯磺酸钠和苯磺酸钠溶于除去CO₂的去离子水中得到溶液，再将步骤（1）得到的水滑石前体加入到该溶液中，N₂保护加热搅拌下反应，产物离心洗涤，干燥，即可得到十二烷基苯磺酸根和苯磺酸根共插层水滑石 DBS/BS-LDHs；

（3）安普霉素固定于十二烷基苯磺酸根和苯磺酸根共插层水滑石层间：

将安普霉素溶于除去CO₂的去离子水中，加入步骤（2）得到的十二烷基苯磺酸根和苯磺酸根共插层水滑石 DBS/BS-LDHs，在N₂保护并搅拌下共热，产物离心洗涤，干燥后即可得到安普霉素、十二烷基苯磺酸根和苯磺酸根插层水滑石APR/DBS/BS-LDHs；

步骤（2）中所述的十二烷基苯磺酸钠和苯磺酸钠的摩尔比为0.2-5；

所述的M²⁺为Zn²⁺、Mg²⁺或Ni²⁺中的一种，M³⁺为Al³⁺。

2.根据权利要求1所述的适用于医院环境的缓释型杀菌剂，其特征在于步骤（1）中所述的水滑石前体为层间阴离子为NO₃^－或者Cl^－，层板二价、三价金属离子摩尔比M²⁺/M³⁺=2-3的水滑石前体NO₃-LDHs或者Cl-LDHs。

3.根据权利要求1所述的适用于医院环境的缓释型杀菌剂，其特征在于步骤（1）中所述的水滑石前体的制备方法如下：

将M²⁺的可溶性盐和M³⁺的可溶性盐配制成盐混合溶液，其中M²⁺/M³⁺摩尔比为2-3，M²⁺的摩尔浓度为0.1-1.0M，M³⁺的摩尔浓度为0.05-0.5M；以摩尔浓度为1.0-3.0M的NaOH水溶液为碱溶液，在N₂保护条件下，采用双滴法将盐混合溶液和碱溶液同时加入四口瓶中，滴加完成后，再用0.1-3.0M NaOH溶液调pH值至6-10，将所得浆液60-80℃晶化12-72h，离心洗涤3-5次；取出样品50-70℃下干燥20-48h，得到水滑石前体；

其中，M²⁺的可溶性盐为其盐酸盐或硝酸盐，M³⁺的可溶性盐为其盐酸盐或硝酸盐；盐混合溶液中，M²⁺的可溶性盐和M³⁺的可溶性盐的种类相同。

4.根据权利要求1所述的适用于医院环境的缓释型杀菌剂，其特征在于步骤（2）中所述的加热温度为50-70℃，反应时间为12-48h。

5.根据权利要求1所述的适用于医院环境的缓释型杀菌剂，其特征在于步骤（2）中所述的洗涤次数为3-5次，干燥温度为50-70℃，干燥时间为20-48h。