[发明专利]一种非硅转移保护膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202111035810.7 | 申请日： | 2021-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN113604167A | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 金闯;陈静 | 申请（专利权）人： | 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/30 | 分类号： | C09J7/30;C09J7/40 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 223999 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 转移 保护膜 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种非硅转移保护膜，其特征在于，包括非硅转移层、胶黏剂层以及基材层，所述胶黏剂层设置在非硅转移层和基材层之间，所述非硅转移层为非硅离型膜，所述胶黏剂层的为聚氨酯胶黏剂或丙烯酸酯胶黏剂。
2.根据权利要求1所述的非硅转移保护膜，其特征在于，所述非硅离型膜为残余值不小于90%的PET、PI、PE、CPP和/或BOPP中的任意一种。
3.根据权利要求1所述的非硅转移保护膜，其特征在于，所述基材层的的材质为析出值低于1%的PET、PI、PE、CPP和/或BOPP中的任意一种。
4.根据权利要求1所述的非硅转移保护膜，其特征在于，所述基材层的厚度为4-250 μm。
5.根据权利要求1所述的非硅转移保护膜，其特征在于，所述非硅离型膜的厚度为12-125 μm。
6.根据权利要求1所述的非硅转移保护膜，其特征在于，所述胶黏剂层的厚度为3-50 μm。
7.根据权利要求1-6任一所述的非硅转移保护膜的制备方法，其特征在于，包括在基材层的一面均匀涂布胶黏剂，放入烘箱中烘烤后，形成胶黏剂层；在胶黏剂层上贴合非硅离型膜，然后进行收卷并进行烤箱熟化，制得非硅转移保护膜。
8.根据权利要求7所述的非硅转移保护膜的制备方法，其特征在于，所述烘箱中烘烤的温度为120oC。
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