[发明专利]一种应用于显微成像的图像高光去除方法在审
| 申请号: | 202111030982.5 | 申请日: | 2021-09-03 |
| 公开(公告)号: | CN113724166A | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
| 发明(设计)人: | 邵航;刘威;高坤 | 申请(专利权)人: | 浙江未来技术研究院(嘉兴);北京航空航天大学 |
| 主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00;G06T7/62;G06N3/04 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 314000 浙江省嘉兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 应用于 显微 成像 图像 去除 方法 | ||
1.一种应用于显微成像的图像高光去除方法,其特征在于,包括:
构建高光去除模型,
所述高光去除模型包括生成器、判别器、及UNet网络,所述生成器通过随机噪声来产生近似无高光的图像,所述判别器对生成器产生的图像进行判别,并给出所述判别的可信度,所述UNet网络用于图像高光部分的去除;
训练所述高光去除模型,
对场景采集有高光图像序列A,对所述场景采集无高光的图像序列B,以所述序列A为输入,所述序列B为输出,对所述高光去除模型进行训练;
高光去除,
将存在高光的任一图像送入高光去除模型,获取所述任一图像的无高光图像。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的生成器包括第一顶层模块、压缩模块、迁移模块、第一扩展模块和第一底层模块;
所述第一顶层模块包含尺寸为3的边缘填充,7×7尺寸卷积核,InstanceNorm归一化函数和ReLU激活层;
所述压缩模块包括2个压缩组件,所述压缩组件包括第一卷积层及第一激活层;
所述迁移模块包括9个迁移组件,所述迁移组件由两个第一卷积模块组成,所述第一卷积模块包括尺寸为1的边缘填充,3×3尺寸卷积核,InstanceNorm归一化函数和ReLU激活层;
所述第一扩展模块包括2个扩展组件,所述扩展组件包括反卷积层、第二激活层,所述反卷积层采用3×3尺寸卷积核,滑动步长为2,零边缘填充尺寸为1,归一化函数为InstanceNorm,所述第二激活层采用ReLU函数;
所述第一底层模块包含尺寸为3的边缘填充,7×7尺寸卷积核和tanh激活层。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述判别器包括第二顶层模块、第二扩展模块及第二底层模块;
所述第二顶层模块包含卷积层和LeakyReLU激活层,所述第二卷积层采用4×4尺寸卷积核,滑动步长为2,零边缘填充尺寸为1,所述LeakyReLU激活函数参数设定为0.2;
所述第二扩展模块包含3个扩展组件,所述扩展组件包括第三卷积层和第三激活层,所述第三卷积层采用4×4尺寸卷积核,滑动步长为2,零边缘填充尺寸为1,归一化函数为InstanceNorm,所述第三激活层采用LeakyReLU函数。
所述第二底层模块为一个4×4尺寸卷积核,滑动步长为1,零边缘填充尺寸为1的卷积层。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:
采用图像处理时域算法获取高光部分,将所述高光部分用于高光去除模型训练,以加速所述高光去除模型训练。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江未来技术研究院(嘉兴);北京航空航天大学,未经浙江未来技术研究院(嘉兴);北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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