[发明专利]一种大平面激光三维成像质量检校场及其设计方法在审

专利信息
申请号: 202111009293.6 申请日: 2021-08-31
公开(公告)号: CN113777591A 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 童小华;谢欢;刘世杰;许雄;魏超;金雁敏;柳思聪;王超;陈鹏;冯永玖;叶真 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: G01S7/497 分类号: G01S7/497
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 应小波
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 平面 激光 三维 成像 质量 校场 及其 设计 方法
【权利要求书】:

1.一种大平面激光三维成像质量检校场,其特征在于,该质量检校场包括多个用于获取激光波束成像的大平面高平整度检校靶板,并按给定布置方案进行布设;每个所述检校靶板包括多个用于调整局部平整度的靶板面调节器。

2.根据权利要求1所述的一种大平面激光三维成像质量检校场,其特征在于,所述检校靶板通过钢框架支撑,该钢框架为方钢铁管焊接的龙骨框架。

3.根据权利要求2所述的一种大平面激光三维成像质量检校场,其特征在于,所述龙骨框架包括多个小框架单元,所述检校靶板利用多个钢板面和小框架单元支撑点与龙骨框架固定连接。

4.根据权利要求3所述的一种大平面激光三维成像质量检校场,其特征在于,所述靶板面调节器置于龙骨框架的小框架单元分割点处。

5.根据权利要求3所述的一种大平面激光三维成像质量检校场,其特征在于,所述龙骨框架采用方钢铁管作为斜支撑。

6.根据权利要求1所述的一种大平面激光三维成像质量检校场,其特征在于,所述检校靶板的基准面涂有用于模拟月壤反射率的检校靶板图层。

7.根据权利要求1所述的一种大平面激光三维成像质量检校场,其特征在于,所述检校靶板的布置方案包括:在垂直激光成像方向,设计不同的成像距离,提升激光成像视场深度;同时设计多个阶梯状平台,增加检校靶板摆放的平台高程变化,扩展竖直成像视场范围。

8.根据权利要求3所述的一种大平面激光三维成像质量检校场,其特征在于,所述检校靶板的布置方案包括:所述龙骨框架底座设有转向轴并安置固定桩,部分所述检校靶板设计垂向倾角和观测方向夹角,采用不同垂向倾角和不同观测方向夹角的安置方法构建多法向平面检校基准。

9.根据权利要求1所述的一种大平面激光三维成像质量检校场,其特征在于,所述检校靶板的布置方案包括:所述校靶板两两固定连接并呈设定夹角,增加线和面的几何向量特征的约束。

10.一种基于权利要求1所述的一种大平面激光三维成像质量检校场的设计方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

步骤S1:检校靶板基准平面参数获取,利用高精度全站仪构建区域平面控制网,获取靶板基准面的三维空间坐标并构建多法向大平面基准向量矩阵;

步骤S2:激光器三维成像点云获取,将激光器安置于观测云台上,设计不同观测角度对靶板区进行扫描成像,分别获取其点云数据并进行分割提取;

步骤S3:误差校验,利用区域平面控制参数,对激光三维成像误差进行检校;

步骤S4:精度评定,对改正值与基准值比较分析,评价成像质量精度。

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