[发明专利]抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂组合物，通过曝光产生酸、并且对显影液的溶解性因酸的作用而变化，其特征在于，含有：

基材成分(A)，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；

产酸剂成分(B)，通过曝光产生酸；以及

酸扩散控制剂(D)，控制通过曝光而从所述产酸剂成分(B)产生的酸的扩散，

所述产酸剂成分(B)包含在阴离子部具有以下述式(b1-1)表示的基团的产酸剂(B1)以及不同于(B1)的产酸剂(B2)，

所述酸扩散控制剂(D)包含在阴离子部具有以下述式(d0)表示的基团的可光降解的碱(D0)，且不包含含氮有机化合物(D2)，

[化1]

式中，Rb¹表示可具有取代基的烃基，其中，Rb¹不包含卤素原子。

2.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂(B2)从以下述式(b-1)表示的化合物、以下述式(b-2)表示的化合物或者以下述式(b-3)表示的化合物中选择，其中，以式(b-2)表示的化合物在阴离子部不具有以式(b1-1)表示的基团，

[化2]

式中，R¹⁰¹、R¹⁰⁴～R¹⁰⁸分别独立地为卤素原子、可具有取代基的环式基、可具有取代基的链状烷基或可具有取代基的链状烯基，R¹⁰⁴、R¹⁰⁵可以相互键合而形成环，R¹⁰²为氟原子或碳数为1～5的氟代烷基，Y¹⁰¹为单键或包含氧原子的2价的连接基团，V¹⁰¹～V¹⁰³分别独立地为单键、亚烷基或氟代亚烷基，L¹⁰¹～L¹⁰²分别独立地为单键或氧原子，L¹⁰³～L¹⁰⁵分别独立地为单键、-CO-或-SO₂-，m为1以上的整数，且M’^m+为m价的鎓阳离子。

3.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，以上述式(d0)表示的基团从以下述式(d0-1)～(d0-23)表示的基团中选择，

[化3]

4.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，进一步含有添加剂(E)。

5.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，进一步含有氟添加剂(F)。

6.一种抗蚀剂图案的形成方法，其特征在于，包括：使用权利要求1～5中的任一项所述的抗蚀剂组合物在支承体上形成抗蚀剂膜的工序；将所述抗蚀剂膜曝光的工序以及使用显影液对曝光后的所述抗蚀剂膜进行显影的工序。