[发明专利]一种闪光超耐磨钻石釉、瓷砖及其制备方法有效
| 申请号: | 202111000170.6 | 申请日: | 2021-08-30 |
| 公开(公告)号: | CN113429130B | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
| 发明(设计)人: | 南顺芝;况学成;徐鹏飞;刘荣和;吴康明 | 申请(专利权)人: | 佛山市大角鹿大理石瓷砖有限公司 |
| 主分类号: | C03C8/00 | 分类号: | C03C8/00;C03C10/00;C04B41/86 |
| 代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 胡枫;李素兰 |
| 地址: | 528000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 闪光 耐磨 钻石 瓷砖 及其 制备 方法 | ||
本发明涉及建筑陶瓷材料领域,具体公开了一种闪光超耐磨钻石釉、瓷砖及其制备方法,其中,所述闪光超耐磨钻石釉主要由全抛釉浆料和锆英砂制成,全抛釉浆料以质量百分比计的化学成分为:SiO2+Al2O3=70~82wt%,CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=15~27wt%,Na2O+K2O=1.8~2.5wt%,P2O5=0~2wt%,ZrO2=0~0.5wt%,SiO2/Al2O3=1.3~1.8。相应的,本发明还公开了由闪光超耐磨钻石釉瓷砖及其制备方法。采用本发明,能同时兼具闪光效果好、透明性优异、耐磨性能好、硬度高、防污性能优异且持久等特点。
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷材料技术领域,尤其涉及一种闪光超耐磨钻石釉、瓷砖及其制备方法。
背景技术
现有的闪光瓷砖表面通过材料配方和工艺,通过添加闪光干粒等原料,可以制作出具有光泽效果的瓷砖。
然而,现有的闪光瓷砖,其闪光效果和产品性能质量难以同时兼顾。
例如,现有技术1为公开号CN103435369的中国专利,公开了一种耐磨防滑干粒陶瓷砖的制造方法,主要包括:1)成型陶瓷砖平面基体,进行图案装饰;2)制备具有耐磨防滑性能的干粒;3)按配比混合耐磨防滑干粒、闪光干粒、透明干粒,供布料使用;4)将混合干粒布施于装饰釉坯的表面,喷施耐温固定剂。5)输送至辊道窑烧成。该技术所使用的闪光干粒为云母片和闪光金属粒组成。该方法是表面不抛光的。一抛光就没有闪光效果。
现有技术2为公开号CN106830686的中国专利,公开了一种烧成后具有凹凸质感的糖果釉及瓷砖的制造方法,其糖果釉在高温烧成时不会熔平,烧成砖面产生凹凸不平感,在灯光的照射下,透明熔块会闪闪发亮,效果更佳丰富细腻。该方法是表面不抛或半抛的。但该方法表面不能抛平。一抛平就没有闪光效果。
现有技术3为公开号CN110078501B的中国专利,公开了全抛闪光晶砂釉瓷砖的制备方法,主要是将闪光粒(锆英砂)与釉料(或干粒和釉浆)按照一定比例混合,同时加入水、悬浮剂、助溶剂,经充分混合后,再通过淋釉或喷釉的方法进行施釉。然而,该方法经检测及用户反映具有不耐磨、易磨花、不防污、热稳定性差等缺点,同时生产过程中因锆英砂比重大,易于沉淀,而造成产品质量不稳定。因此该技术及产品满足不了用户的需求。
现有技术4为公开号CN112745145A的中国专利,其公开了一种全抛釉、以及具有全抛釉的抛釉砖及其制备方法,所述全抛釉的化学组成包括:按质量计,SiO2:45~48%、Al2O3:14~16%、Fe2O3:0.1~0.3%、CaO:5~6.5%、MgO:2.5~4%、K2O:3.0~4.0%、Na2O:0.8~1.5%、BaO:9~11%、ZnO:8~10%、ZrO2:0.5~2%、烧失:3.5~4.5%。该全抛釉烧成后透明度高、硬度达到6级,耐磨等级达到6000转(4级),且釉层均匀存在一定数量直径在20μm以下的气泡,由于气泡直径小,不影响釉层的透感,抛光后,会形成大量的半球形小凹坑。然后在上述半球形小凹坑中涂覆含纳米银成分的超洁亮蜡水。现有技术4通过纳米银颗粒,修补了抛光表面的气孔和微缝隙,形成连续致密的光洁表面,降低砖表面的粗糙度,有效防止各种污物残留于砖表面和通过气孔和微裂隙进入砖体内部,同时赋予产品良好的防污性能。同时利用银离子取得优异的抗菌性能。然而,由于超洁亮蜡和纳米银颗粒仅仅涂覆在砖的表面,其在使用中很容易被带出,带出后,影响砖的防污性,其防污性不持久。
发明内容
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